[发明专利]一种底部抗反射膜树脂和组合物及图案形成方法

权利要求书

1.一种底部抗反射膜树脂，其特征在于，所述底部抗反射膜树脂包括式(1)所示的含氟双酯基结构单元以及式(2)所示的不含氟双酯基结构单元；

式(1)中，Ar表示苯环或者萘环，n表示1～6的整数；式(2)中，Ar`表示苯环或者萘环；所述底部抗反射膜树脂的重均分子量Mw为1000～100000；所述含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为30wt％以上，所述不含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为1～20wt％。

2.根据权利要求1所述的底部抗反射膜树脂，其特征在于，所述含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为35～60wt％，所述不含氟双酯基结构单元在底部抗反射膜树脂分子链中的占比为1～15wt％。

3.根据权利要求1所述的底部抗反射膜树脂，其特征在于，所述底部抗反射膜树脂还包括醇基结构单元，所述醇基结构单元衍生自式(3)所示的多元醇单体或式(4)所示的多元环氧单体；

HO-X-OH式(3)，

式(3)和式(4)中，X表示C₁～C₆的取代或非取代的直链状烃基或支链状烃基、C₆～C₁₀的取代或非取代的脂环式烃基、C₆～C₁₀的取代或非取代的芳香基或者包括1～3个氮原子的杂环二价基团，所述直链状烃基、支链状烃基、脂环式烃基、芳香基和杂环二价基团上任选包括至少一个取代基。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的底部抗反射膜树脂，其特征在于，所述底部抗反射膜树脂通过将双酯基化合物与多元醇单体或多元环氧单体进行聚合反应生成，所述多元醇单体具有式(3)所示的结构，所述多元环氧单体具有式(4)所示的结构，所述双酯基化合物包括具有式(5)所示结构单元的含氟双酯基单体以及具有式(6)所示结构单元的不含氟双酯基单体；

HO-X-OH式(3)，

式(3)和式(4)中，X表示C₁～C₆的取代或非取代的直链状烃基或支链状烃基、C₆～C₁₀的取代或非取代的脂环式烃基、C₆～C₁₀的取代或非取代的芳香基或者包括1～3个氮原子的杂环二价基团，所述直链状烃基、支链状烃基、脂环式烃基、芳香基和杂环二价基团上任选包括至少一个取代基；式(5)中，Ar表示苯环或者萘环，n和m各自独立地表示1～6的整数；式(6)中，Ar`表示苯环或者萘环，m表示1～6的整数。

5.根据权利要求4所述的底部抗反射膜树脂，其特征在于，所述多元醇单体选自如下式中的至少一者：

6.根据权利要求4所述的底部抗反射膜树脂，其特征在于，所述多元环氧单体选自如下式中的至少一者：

7.一种底部抗反射膜组合物，其特征在于，所述底部抗反射膜组合物中含有权利要求1～6中任意一项所述的底部抗反射膜树脂以及溶剂。

8.根据权利要求7所述的底部抗反射膜组合物，其特征在于，以所述底部抗反射膜组合物的总重量为基准，所述底部抗反射膜树脂的含量为0.5～15wt％。

9.根据权利要求7所述的底部抗反射膜组合物，其特征在于，所述底部抗反射膜组合物中还含有交联剂、催化剂和表面活性剂中的至少一种。

10.一种图案形成方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

在基板上形成材料层；

将权利要求7～9中任意一项所述的底部抗反射膜组合物施加至材料层上并进行热处理，以形成底部抗反射膜；

在底部抗反射膜上形成光刻胶抗蚀层；

将所述光刻胶抗蚀层曝光并显影以形成光刻胶图案；

使用所述光刻胶图案选择性去除部分所述底部抗反射膜以暴露所述材料层的一部分；

刻蚀所述材料层的暴露部分。