[发明专利]一种稳压防漏电的碳化硅二极管有效

专利信息
申请号: 202110666909.0 申请日: 2021-06-16
公开(公告)号: CN113540256B 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 柴庆锋 申请(专利权)人: 先之科半导体科技(东莞)有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/16;H01L29/06
代理公司: 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙) 44400 代理人: 何新华
地址: 523430 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 稳压 漏电 碳化硅 二极管
【权利要求书】:

1.一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,包括阴极金属(1)、连接在所述阴极金属(1)上端的碳化硅衬底(2)、形成于所述碳化硅衬底(2)上端的碳化硅外延层(3)、连接在所述碳化硅外延层(3)上端的阳极金属(4)、SiO2层(5);

所述碳化硅衬底(2)上形成有第一凸起部(21)、第二凸起部(22),所述第一凸起部(21)上设有第一沟槽,所述第二凸起部(22)上设有第二沟槽;

所述阳极金属(4)包括第一接触部(41)、第二接触部(42)、第三接触部(43),所述第一接触部(41)位于所述第二接触部(42)与所述第三接触部(43)之间,所述第一接触部(41)下端与所述碳化硅外延层(3)之间形成第一肖特基势垒(61),所述第二接触部(42)延伸至所述第一沟槽内侧,所述第二接触部(42)与所述第一沟槽的交接处形成第二肖特基势垒(62),所述第三接触部(43)延伸至所述第二沟槽内侧,所述第三接触部(43)与所述第二沟槽的交接处形成第三肖特基势垒(63);

所述第一肖特基势垒(61)底部与所述碳化硅外延层(3)下表面之间的距离为a,所述第二肖特基势垒(62)底部与所述碳化硅外延层(3)下表面之间的距离为b,所述第三肖特基势垒(63)底部与所述碳化硅外延层(3)下表面之间的距离为c,a>b=c;

所述碳化硅外延层(3)、碳化硅衬底(2)边缘还设有氧化膜(9)。

2.根据权利要求1所述的一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,所述第一肖特基势垒(61)边缘形成有第一p型保护环(71),所述第二肖特基势垒(62)上端边缘形成有第二p型保护环(72),所述第三肖特基势垒(63)上端边缘形成有第三p型保护环(73)。

3.根据权利要求1所述的一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,所述阴极金属(1)边缘还设有导热绝缘层(8),所述导热绝缘层(8)连接在所述碳化硅衬底(2)下端。

4.根据权利要求1所述的一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,所述氧化膜(9)为等离子微弧氧化膜。

5.根据权利要求1所述的一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,所述第一凸起部(21)、第二凸起部(22)边缘为弧形结构。

6.根据权利要求1所述的一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,所述第二接触部(42)、第三接触部(43)的下端边角均为R角结构。

7.根据权利要求1所述的一种稳压防漏电的碳化硅二极管,其特征在于,所述碳化硅衬底(2)的厚度低于120nm。

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