[发明专利]柔性显示面板及其制备方法在审
申请号: | 202110646871.0 | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN113437118A | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 王敏 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 黄舒悦 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 柔性 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种柔性显示面板,其特征在于,包括:
衬底;
设置于所述衬底上方的阵列层,所述阵列层包括设置在所述衬底上的柔性层;
设置于所述阵列层上方的平坦层、发光功能层;
其中,所述柔性显示面板包括中心区域、围绕所述中心区域设置的至少一弯折区,所述衬底避开所述弯折区设置,位于所述弯折区的所述阵列层弯折至所述中心区域的所述衬底背面设置。
2.如权利要求1所述的柔性显示面板,其特征在于,所述弯折区为所述柔性显示面板的GOA区域。
3.如权利要求2所述的柔性显示面板,其特征在于,所述衬底的背面还设置有保护层,所述阵列层弯折至所述保护层的背面设置。
4.如权利要求2所述的柔性显示面板,其特征在于,所述衬底为刚性衬底,所述衬底的厚度范围为0.1毫米至0.17毫米。
5.如权利要求2所述的柔性显示面板,其特征在于,所述阵列层还包括设置于所述柔性层上的无机阻隔层、设置于所述无机阻隔层上的TFT器件层,所述柔性层和所述TFT器件层通过所述无机阻隔层阻隔。
6.如权利要求5所述的柔性显示面板,其特征在于,所述柔性显示面板还包括设置在所述发光功能层上的封装层,所述封装层包括第一无机层、第一有机层、第二无机层的叠层封装结构。
7.如权利要求6所述的柔性显示面板,其特征在于,所述柔性显示面板还贴附设置有阻隔薄膜,所述阻隔薄膜包括设置在所述封装层上的第一阻隔薄膜,以及设置在所述平坦层、发光功能层、封装层侧面第二阻隔薄膜,所述阻隔薄膜与所述柔性显示面板之间通过光学胶粘接。
8.一种柔性显示面板制备方法,其特征在于,包括:
提供一现有的显示面板,所述显示面板包括刚性衬底、阵列层、平坦层、发光功能层、封装层,所述衬底为刚性衬底,
减薄所述刚性衬底的厚度,形成一定薄度的所述衬底;
在所述显示面板上定义出中心区域、围绕所述中心区域设置的弯折区域,其中,在弯折区域,所述柔性层与所述刚性衬底之间还设置有牺牲层,使用紫外光从衬底背向所述柔性层的背面照射弯折区,去除所述牺牲层,使弯折区内所述衬底与所述柔性层相互剥离;
去除所述弯折区内的所述衬底,将所述弯折区内的所述阵列层弯折至所述中心区域的所述衬底背面,制备得到所述柔性显示面板。
9.如权利要求8所述的柔性显示面板制备方法,其特征在于,通过刻蚀减薄所述衬底的厚度的步骤包括:
在所述显示面板远离所述衬底的一侧底面贴抗酸膜,并在所述显示面板侧面涂布抗酸胶进行保护,然后将保护好的所述显示面板使用氢氟酸进行所述衬底背面的单面减薄,形成厚度范围为0.1毫米至0.17毫米的所述衬底。
10.如权利要求8所述的柔性显示面板制备方法,其特征在于,还包括:
给所述衬底背面一侧贴附保护层,用于保护薄化的所述衬底不受外界机械力的损伤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的