[发明专利]一种TFT基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110613101.6 申请日: 2021-06-02
公开(公告)号: CN113327944A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 张桂瑜;许汉东;王强 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1343
代理公司: 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 代理人: 段惠存
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 tft 及其 制造 方法
【说明书】:

发明涉及TFT基板技术领域,特别涉及一种TFT基板及其制造方法,包括玻璃基板,在玻璃基板的一侧面上依次层叠设有栅极金属层、栅极绝缘层、有源层、蚀刻阻挡层、源漏极金属层、钝化层、缓冲层、第一绝缘层、共通电极层和第二绝缘层,在第一绝缘层与缓冲层之间设置第二金属层,第二金属层的竖直截面形状为阶梯状,通过在缓冲层上设计一个阶梯状的金属层做引导,阶梯状的金属层将PI液可流动的渠道被固定,从而减少了PI液流动渠道,有利于将PI液引导扩散到OC洞,使得PI更容易流入OC洞中,进而解决因PI不沾基板导致Fog mura产生的问题。

技术领域

本发明涉及TFT基板技术领域,特别涉及一种TFT基板及其制造方法。

背景技术

在TFT-LCD(英文全称为Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示屏)中,涂布于CF基板和TFT基板上的配向膜,起着控制液晶分子排列方向的作用。TFT-LCD配向膜需要有高机械强度,有配向的记忆功能,配向图案要耐得住近200度的高温。配向膜不能与液晶发生反应。工程应用上,聚酰亚胺(polyimide,PI)能同时满足以上要求。

配向膜需要进行配向处理才能有效地控制液晶分子的排列,配向技术主要有摩擦型和非摩擦型两大类。摩擦配向在LCD领域有着最广泛的应用。摩擦配向是在高分子PI表面用绒布滚轮进行接触式配向。

配向膜成膜方式有PI浸泡方式、印刷方式和喷墨方式。印刷方式有图案选择准确、印刷表面均匀等优点,因此被得到广泛应用。印刷方式基于柔性版印刷技术,PI液透过各种机构转印到基板上,转印过程中,在PI涂布在TFT测时,由于OC洞深,使得PI无法完全流入洞内,在滚筒滚动会导致PI被滚筒掀起,导致PI不沾在基板上,此处没有PI液,液晶没有进行预倾角,液晶杂乱无章,会有Fog mura(即圆形状灰度不均不良)产生。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:提供一种TFT基板及其制造方法,解决因聚酰亚胺不沾在基板上而导致Fog mura产生的问题。

为了解决上述技术问题,本发明采用的第一种技术方案为:

一种TFT基板,包括玻璃基板,在所述玻璃基板的一侧面上依次层叠设有栅极金属层、栅极绝缘层、有源层、蚀刻阻挡层、源漏极金属层、钝化层、缓冲层、第一绝缘层、共通电极层和第二绝缘层,所述蚀刻阻挡层上开设有第一过孔,所述第一过孔中填充有源漏极金属层,所述钝化层上开设有第二过孔,所述第一绝缘层上开设有第三过孔,所述第二绝缘层上开设有第四过孔,所述第二过孔、第三过孔和第四过孔依次层叠设置且相通,所述第二过孔、第三过孔和第四过孔中均填充有画素电极层,所述第一绝缘层上开设有第五过孔,所述第五过孔中填充有共通电极层,所述第一绝缘层与缓冲层之间还设有第一金属层和第二金属层,所述第一金属层和第二金属层分别分布在第三过孔的两侧,所述第二金属层的竖直截面形状为阶梯状。

本发明采用的第二种技术方案为:

一种TFT基板的制造方法,包括以下步骤:

S1、提供一玻璃基板,在所述玻璃基板表面覆盖有栅极金属层;

S2、形成栅极绝缘层,且覆盖于所述栅极金属层表面;

S3、形成有源层,且覆盖于所述栅极绝缘层表面;

S4、形成蚀刻阻挡层,且覆盖于所述有源层表面;在所述蚀刻阻挡层中形成第一过孔;

S5、形成源漏极金属层,且覆盖于所述蚀刻阻挡层表面和填充于第一过孔中;

S6、形成钝化层,且覆盖于所述源漏极金属层表面;在所述钝化层中形成第二过孔;

S7、形成缓冲层,且覆盖于所述钝化层表面;

S8、形成第一金属层和第二金属层,且均覆盖于所述缓冲层表面;

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