[发明专利]一种离合器摩擦片质量的评价方法

权利要求书

1.一种离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于，其包括如下步骤：

选取摩擦片样品，并对所述样品进行处理，以得到分析评价面；

对所述分析评价面进行观察，获取微观结构指数以及微观结构分布图，所述微观结构分布图中包括铜丝和样品基体中的填充物；所述微观结构指数包括气孔率、气孔尺寸、铜丝直径以及填充物颗粒长轴方向尺寸；

将所述微观结构指数与设定范围进行比较，以及对所述微观结构分布图进行分析；所述设定范围包括设定气孔率范围、设定气孔尺寸范围、设定铜丝直径范围和设定填充物颗粒长轴方向尺寸范围；

若所述微观结构指数处于所述设定范围，铜丝分布均匀，且填充物分布均匀，则所述样品质量合格；否则，所述样品质量不合格。

2.如权利要求1所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：

设定气孔率范围为≤20％，设定气孔尺寸范围为≤0.1mm，设定铜丝直径范围为0.15～0.2mm，设定填充物颗粒长轴方向尺寸范围为0.2～0.3mm。

3.如权利要求2所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：

所述气孔率设定值为18％，所述气孔尺寸设定值为0.08mm，所述铜丝直径设定值为0.16mm，所述填充物颗粒长轴方向尺寸设定值为0.25mm。

4.如权利要求1所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：对所述样品进行处理，以得到分析评价面，具体包括如下步骤：

沿所述样品的直径方向，对所述样品进行切割，得到切割断面；

将所述切割断面作为所述分析评价面。

5.如权利要求1所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：在对所述分析评价面进行观察之前，还包括如下步骤：

对分析评价面依次进行预磨、冷镶嵌、磨制以及抛光处理。

6.如权利要求1所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：利用显微镜对分析评价面进行观察。

7.如权利要求6所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：所述显微镜的观察倍数为50X或100X。

8.如权利要求6所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：在显微镜的观察视场中，所述铜丝的数目至少为五个。

9.如权利要求6所述的离合器摩擦片质量的评价方法，其特征在于：在显微镜的观察视场中，所述观察视场大小为Ф100～Ф200mm。