[发明专利]一种VDMOS器件结构的三极管显示器在审

专利信息
申请号: 202110594705.0 申请日: 2021-05-28
公开(公告)号: CN113327988A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 杜晓松;郭华飞;沈秋华;宋东;杨晋苏;张婷;杨长春 申请(专利权)人: 常州大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L27/32
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 王敏
地址: 213164 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 vdmos 器件 结构 三极管 显示器
【权利要求书】:

1.一种VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,包括:

多个像素,每个所述像素包括三个子像素单元,包括红色子像素单元、绿色子像素单元、蓝色子像素单元;

驱动背板,所述驱动背板上设有若干规则排列的过孔,所述子像素单元覆盖至少一个所述过孔;所述驱动背板承载多个像素,用于驱动所述子像素单元发光;

所述子像素单元包括阳极、VDMOS器件、ITO/TiN薄膜层和LED发光单元,所述阳极设置在驱动背板上,且覆盖至少一个所述过孔,所述VDMOS器件设置在阳极远离驱动背板的一侧,所述ITO/TiN薄膜层包括上下堆叠设置的ITO薄膜层和TiN薄膜层,所述TiN薄膜层设置在VDMOS器件上远离驱动背板的一侧,所述ITO薄膜层设置在TiN薄膜层上远离驱动背板的一侧,所述LED发光单元设置在ITO薄膜层上远离驱动背板的一侧。

2.根据权利要求1所述的VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,所述VDMOS器件包括NPN型半导体层、SiN侧壁保护层、栅极绝缘层和栅极,所述NPN型半导体层位于阳极远离驱动背板的一侧,所述ITO/TiN薄膜层设置在NPN型半导体层远离驱动背板的一侧,所述SiN侧壁保护层设置在ITO/TiN薄膜层上表面四周,形成SiN槽,所述栅极绝缘层包覆在SiN侧壁保护层、ITO/TiN薄膜层和NPN型半导体层的外侧壁上,所述栅极设置在栅极绝缘层的侧壁上,所述栅极绝缘层的垂直剖面为L型结构,且栅极底面与栅极绝缘层接触。

3.根据权利要求2所述的VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,所述LED发光单元包括RGB OLED发光层和漏极,所述RGB OLED发光层位于SiN槽内ITO/TiN薄膜层远离驱动背板的一侧,所述红色子像素单元的RGB OLED发光层中为红色OLED发光材料;所述绿色子像素单元的RGB OLED发光层中为绿色OLED发光材料;所述蓝色子像素单元的RGB OLED发光层为蓝色OLED发光材料,所述漏极位于RGB OLED发光层远离驱动背板的一侧。

4.根据权利要求1所述的VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,所述VDMOS器件包括NPN型半导体层、栅极和栅极绝缘层,所述NPN型半导体层位于阳极远离驱动背板的一侧,所述栅极绝缘层镀覆在NPN型半导体层和阳极的外侧壁,所述栅极覆盖在所述栅极绝缘层的侧边。

5.根据权利要求4所述的VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,所述LED发光单元包括键合金属层、第一半导体层、发光层和第二半导体层,所述键合金属层键合生长在ITO/TiN薄膜层远离驱动背板一侧,所述第一半导体层位于所述键合金属层远离驱动背板的一侧;所述发光层设置在所述第一半导体层远离驱动背板的一侧;所述第二半导体层设置在所述发光层远离驱动背板的一侧;所述红色子像素单元、所述绿色子像素单元和所述蓝色子像素单元中的发光层发出蓝光。

6.根据权利要求4所述的VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,所述LED发光单元为OLED白光层,所述OLED白光层位于ITO/TiN薄膜层远离驱动背板的一侧,且与ITO/TiN薄膜层接触。

7.根据权利要求3所述的VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,还包括第一薄膜封装层、共阴极和第二薄膜封装层,其中,

所述第一薄膜封装层包覆VDMOS器件、LED发光单元和驱动背板上表面,每个子像素单元中对应的第一薄膜封装层上开有一个第一电极槽,露出部分漏极,每两个子像素单元之间对应的第一薄膜封装层上还开有第二电极槽,所述第二电极槽在驱动背板上的投影位于两个子像素单元之间;

所述共阴极生长在第一薄膜封装层远离驱动背板的一侧,且覆盖第一电极槽和第二电极槽,所述共阴极通过第一电极槽与漏极接触;

所述第二薄膜封装层生长在共阴极远离驱动背板的一侧,且覆盖共阴极。

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