[发明专利]光掩模的修正方法

说明书

本发明的课题在于提供良好地修正相移光掩模的相移膜的白缺陷的方法。本发明的光掩模的修正方法，其是具备由相移膜构成的相移图案的光掩模的修正方法，包括：取得修正膜的光学特性的膜厚依赖性的步骤；为了使得从由修正膜构成的图案和相移图案转印的光致抗蚀剂的形状一致，而求出由修正膜构成的图案的修正量的修正膜厚依赖性的步骤；当在光掩模的相移图案中检出白缺陷的情况下，确定所检出的各白缺陷的位置的步骤；对应各白缺陷确定修正膜的膜厚及修正膜的图案的修正量的步骤；以及在包含各白缺陷的区域形成修正膜的步骤。

技术领域

本发明涉及一种对具备相移图案的光掩模的缺陷进行修正的光掩模的修正方法。

背景技术

一直以来，在平板显示器装置等的制造过程的光刻工序中，有时使用在透过性基板上形成有由半透过性的相移膜构成的图案的相移掩模。在光掩模的制造工序中，设有对偶然产生的缺陷等进行修正的工序。

【现有技术文献】

【专利文献】

专利文献1：日本特开2019-32520号公报

专利文献2：日本特开2018-124466号公报

发明内容

发明要解决的课题

在专利文献1中公开了如下的修正方法：为了对相移膜中产生的缺陷进行修正，期望使用具有与相移膜相同的光学特性的修正膜，但是难以提供兼顾透射率和相移特性的修正膜，因此对光掩模的相移图案侧加以制约，而仅能应用于满足特定条件的图案。

专利文献2虽然公开了能够通过遮光膜来修正相移膜的白缺陷的技术，但是对于能够应用的图案存在限制。

这样，由于光掩模的相移膜和修正膜的光学特性存在差异，因此不容易对白缺陷进行修正。另一方面，相移光掩模已被使用于各种制品的制造，并且，对于具有精细图案的相移光掩模而言，对缺陷修正技术的要求越来越严格。

本发明的课题在于提供良好地修正光掩模的相移膜的白缺陷的方法。

用于解决课题的手段

本发明涉及的光掩模的修正方法，其是具备由相移膜构成的相移图案的光掩模的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1，取得修正膜的光学特性的膜厚依赖性；

步骤S2，为了使从由前述修正膜构成的图案转印的光致抗蚀剂的形状与从前述相移图案转印的光致抗蚀剂的形状一致，而求出由前述修正膜构成的图案的修正量的前述修正膜的膜厚依赖性；

步骤S3，执行前述光掩模的缺陷检查，当在前述相移图案中检出白缺陷的情况下，确定所检出的前述各白缺陷的位置；

步骤S4，对应前述各白缺陷确定前述修正膜的膜厚及由前述修正膜构成的图案的前述修正量；以及

步骤S5，在包含各白缺陷的区域形成修正膜。

另外，本发明涉及的光掩模的修正方法，其特征在于，前述修正膜的光学特性与前述相移膜的光学特性大致相同。

通过这样的光掩模的修正方法，可以提供对各种相移膜的图案均能进行修正的光掩模的修正方法。在此，“光学特性大致相同”是指：光学特性(特别是透射率及相移量)与周围的相移图案近似到能够用修正了白缺陷的状态的光掩模准确地进行曝光的程度。

另外，本发明涉及的光掩模的修正方法，其特征在于，在前述步骤S5中，使用金属离子通过聚焦离子束(FIB)装置来形成修正膜。

通过这样的光掩模的修正方法，能够进行适合于产生了缺陷的部位的修正。

另外，本发明涉及光掩模的修正方法，其特征在于，前述修正膜由类钻碳(Diamond-Like Carbon)构成。