[发明专利]集成电路绕线质量分析方法、装置、电子设备和存储介质

说明书

一种集成电路的绕线质量分析方法、装置、电子设备和计算机可读存储介质。该绕线质量分析方法包括：从集成电路的版图中获取至少一个目标走线区域；确定经过至少一个目标走线区域中每个目标走线区域的绕线组，绕线组包括至少一条绕线；以及针对每个目标走线区域，计算绕线组的迂回程度表征参数，以根据迂回程度表征参数确定集成电路的绕线质量。该方法能够降低分析集成电路的绕线质量所消耗的时间成本和人力成本，提高绕线质量分析的量化程度，并且提升绕线质量分析的准确性。

技术领域

本公开的实施例涉及一种集成电路的绕线质量分析方法、装置、电子设备和存储介质。

背景技术

在集成电路设计领域，后端设计涵盖了在逻辑设计之后、集成电路加工之前的所有电路生成步骤，后端设计包括模块划分、布局和布线等。后端设计的版图质量对电路性能、面积、良率(yield)以及可靠性至关重要。

在进行集成电路布局设计时，连接不同器件的绕线需要进行合理设计和布置，由于功耗需求等原因，对绕线设计的要求越来越高。

发明内容

本公开至少一个实施例提供一种集成电路的绕线质量分析方法，包括：从集成电路的版图中获取至少一个目标走线区域；确定经过至少一个目标走线区域中每个目标走线区域的绕线组，绕线组包括至少一条绕线；以及针对每个目标走线区域，计算绕线组的迂回程度表征参数，以根据迂回程度表征参数确定集成电路的绕线质量。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，针对每个目标走线区域，计算绕线组的迂回程度表征参数，以根据迂回程度表征参数确定集成电路的绕线质量，包括：针对每个目标走线区域，计算绕线组中每条绕线的迂回特征值；将绕线组中每条绕线的迂回特征值进行计算而得到绕线组的特征值计算结果；以及基于特征值计算结果，确定绕线组的迂回程度表征参数，以根据迂回程度表征参数确定集成电路的绕线质量。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，将绕线组中每条绕线的迂回特征值进行计算而得到绕线组的特征值计算结果包括：将绕线组中每条绕线的迂回特征值进行算术加和，得到特征值和，并将特征值和作为特征值计算结果。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，基于特征值计算结果，确定绕线组的迂回程度表征参数，以根据迂回程度表征参数确定集成电路的绕线质量，包括：将特征值计算结果作为迂回程度表征参数；或者计算特征值计算结果与绕线组中绕线的数量的比值，并且将比值作为迂回程度表征参数，以根据迂回程度表征参数确定集成电路的绕线质量。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，针对每个目标走线区域，计算绕线组中每条绕线的迂回特征值，包括：计算绕线的长度以及绕线的起点与终点之间的距离；计算长度和距离的比值；以及计算比值与1之间的差值，并且将差值作为迂回特征值。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，距离包括欧式距离或曼哈顿距离。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，还包括：根据绕线组的迂回程度表征参数，确定绕线组所经过的目标走线区域对应的显示图像元素；以及在目标走线区域显示显示图像元素。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，根据绕线组的迂回程度表征参数，确定绕线组所经过的目标走线区域对应的显示图像元素，包括：根据绕线组的迂回程度表征参数，确定绕线组的迂回程度表征参数所属的参数区间；以及将参数区间对应的显示图像元素作为绕线组所经过的目标走线区域对应的显示图像元素。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，显示图像元素为单一颜色或图案。

例如，在本公开一实施例提供的绕线质量分析方法中，不同参数区间对应的显示图像元素不同。