[发明专利]集成电路绕线质量分析方法、装置、电子设备和存储介质

权利要求书

1.一种集成电路的绕线质量分析方法，包括：

从所述集成电路的版图中获取至少一个目标走线区域；

确定经过所述至少一个目标走线区域中每个目标走线区域的绕线组，其中，所述绕线组包括至少一条绕线；以及

针对每个所述目标走线区域，计算所述绕线组的迂回程度表征参数，以根据所述迂回程度表征参数确定所述集成电路的绕线质量。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，针对每个目标走线区域，计算所述绕线组的迂回程度表征参数，以根据所述迂回程度表征参数确定所述集成电路的绕线质量，包括：

针对每个目标走线区域，计算所述绕线组中每条绕线的迂回特征值；

将所述绕线组中每条绕线的迂回特征值进行计算而得到所述绕线组的特征值计算结果；以及

基于所述特征值计算结果，确定所述绕线组的迂回程度表征参数，以根据所述迂回程度表征参数确定所述集成电路的绕线质量。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，将所述绕线组中每条绕线的迂回特征值进行计算而得到所述绕线组的特征值计算结果包括：

将所述绕线组中每条绕线的迂回特征值进行算术加和，得到特征值和，并将所述特征值和作为所述特征值计算结果。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，基于所述特征值计算结果，确定所述绕线组的迂回程度表征参数，以根据所述迂回程度表征参数确定所述集成电路的绕线质量，包括：

将所述特征值计算结果作为所述迂回程度表征参数；或者

计算所述特征值计算结果与所述绕线组中绕线的数量的比值，并且将所述比值作为所述迂回程度表征参数，以根据所述迂回程度表征参数确定所述集成电路的绕线质量。

5.根据权利要求2所述的方法，其中，针对每个目标走线区域，计算所述绕线组中每条绕线的迂回特征值，包括：

计算所述绕线的长度以及所述绕线的起点与终点之间的距离；

计算所述长度和所述距离的比值；以及

计算所述比值与1之间的差值，并且将所述差值作为所述迂回特征值。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述距离包括欧式距离或曼哈顿距离。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：

根据所述绕线组的迂回程度表征参数，确定所述绕线组所经过的目标走线区域对应的显示图像元素；以及

在所述目标走线区域显示所述显示图像元素。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，根据所述绕线组的所述迂回程度表征参数，确定所述绕线组所经过的目标走线区域对应的显示图像元素，包括：

根据所述绕线组的所述迂回程度表征参数，确定所述绕线组的所述迂回程度表征参数所属的参数区间；以及

将所述参数区间对应的显示图像元素作为所述绕线组所经过的目标走线区域对应的显示图像元素。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述显示图像元素为单一颜色或图案。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，不同参数区间对应的显示图像元素不同。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，从所述集成电路的版图中获取所述至少一个目标走线区域，包括：

确定标准窗口；以及

根据所述标准窗口，对所述集成电路的版图中的初始走线区域进行划分，以确定所述至少一个目标走线区域，其中，所述目标走线区域的形状和尺寸与所述标准窗口的形状和尺寸相同。

12.根据权利要求11所述的方法，确定所述标准窗口包括：

获取所述绕线的线宽；以及

根据所述绕线的线宽，确定所述标准窗口的尺寸。