[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110556966.3 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN113345941A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 胡泽虎 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 唐秀萍
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

衬底基板;

平坦层,设置于所述衬底基板上;

第一电极层,设置于所述平坦层上,所述第一电极层包括在第一方向和第二方向上分别间隔排列的多个第一电极,所述第一方向与所述第二方向相交;

第一像素定义层,设置于所述平坦层上,且分别沿所述第一方向和所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的间隔中;

第二像素定义层,沿所述第二方向设置于相邻所述第一电极之间的所述第一像素定义层上。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二像素定义层在所述平坦层上的正投影覆盖所述第二方向上的所述第一像素定义层在所述平坦层上的正投影。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二像素定义层的截面为梯形,所述第二像素定义层的上表面面积小于所述第二像素定义层的下表面面积。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二像素定义层与所述第一像素定义层的接触面保持水平或者向所述第二像素定义层的一侧凸起。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素定义层的厚度大于或者等于所述第一电极层的厚度。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素定义层的厚度小于或等于0.4um。

7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素定义层的材料是正向光阻材料,所述第二像素定义层的材料是负向光阻材料;或者所述第一像素定义层的材料是负向光阻材料,所述第二像素定义层的材料是正向光阻材料。

8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供一TFT基板,在所述TFT基板的平坦层表面制备第一电极层,所述第一电极层包括沿第一方向和第二方向上分别间隔排列的多个第一电极,所述第一方向与所述第二方向相交;

在所述平坦层上沿所述第一方向和所述第二方向制备第一像素定义层,所述第一像素定义层位于相邻所述第一电极之间的间隔中;

在所述第一像素定义层上沿所述第二方向制备第二像素定义层,所述第二像素定义层位于相邻所述第一电极之间的间隔中。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,在制备所述第一像素定义层的步骤中包括:在所述平坦层上沿所述第一方向和所述第二方向制备第一像素定义薄膜,并对所述第一像素定义薄膜进行减薄处理,得到所述第一像素定义层。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~7任一项所述的显示面板。

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