[发明专利]贮存装置和贮存方法

说明书

本发明提供一种贮存装置和贮存方法。本发明的一个方式的贮存装置包括贮存槽、加热机构和控制部。贮存槽用于贮存含有磷酸水溶液和添加剂的处理液。加热机构能够对贮存于贮存槽中的处理液进行加热。控制部执行浓度维持处理，在该浓度维持处理中，控制加热机构来调节处理液的温度，使得贮存槽中的处理液的水分蒸发量接近贮存槽中的处理液的吸湿量。根据本发明，能够适当地实施利用含有磷酸水溶液和硅溶液的处理液来进行的基片处理。

技术领域

本发明的实施方式涉及贮存装置和贮存方法。

背景技术

在现有技术中，已知在基片处理系统中，将基片浸渍于含有磷酸水溶液和硅溶液的蚀刻液中，对该基片进行处理(参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-118092号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

本发明提供一种能够适当地实施利用含有磷酸水溶液和硅溶液的处理液来进行的基片处理的技术。

用于解决问题的技术手段

本发明的一个方式的贮存装置包括贮存槽、加热机构和控制部。贮存槽用于贮存含有磷酸水溶液和添加剂的处理液。加热机构能够对贮存于贮存槽中的处理液进行加热。控制部执行浓度维持处理，在该浓度维持处理中，控制加热机构来调节处理液的温度，使得贮存槽中的处理液的水分蒸发量接近贮存槽中的处理液的吸湿量。

发明效果

根据本发明，能够适当地实施利用含有磷酸水溶液和硅溶液的处理液来进行的基片处理。

附图说明

图1是表示实施方式的基片处理系统的构成的概略框图。

图2是表示实施方式的浓度调节处理的步骤的流程图。

图3是表示实施方式的混合装置的构成的图。

图4是表示实施方式的混合装置中的供气排气量调节处理的步骤的流程图。

附图标记说明

1 基片处理系统

10 混合装置

11 磷酸水溶液供给部

12 析出抑制剂供给部

14 罐

15 循环线路

15c 分支部

16 泵

17 加热器

22 送液线路

24 返回线路

30 基片处理部

31 处理槽

51 背压阀

52 温度计

55 流量计

W 晶片

M 混合液

E 蚀刻液

具体实施方式

以下，参照附图详细说明用于实施本发明的贮存装置和贮存方法的方式(以下记为“实施方式”)。此外，本发明不限于该实施方式。另外，各实施方式能够在不使处理内容矛盾的范围内适当组合。另外，在以下的各实施方式中对同一部位标注相同的附图标记，省略重复的说明。