[发明专利]支原体清除组合物和处理体外培养细胞的方法

说明书

本申请公开一种支原体清除组合物，包括使用终浓度为10～40μM的红霉素，使用终浓度为10～40μM的氯霉素，使用终浓度为10～40μM的泰乐菌素，使用终浓度为4μg/mL的环丙沙星。本申请适用于去除体外培养的细胞，且联合用药有利于降低细胞的抗药性和抗生素对细胞的毒性，有利于细胞在去除支原体之后恢复细胞原有的生理活性，保证细胞的主要特性不丧失。

技术领域

本申请涉及细胞培养领域，尤其涉及一种支原体清除组合物和处理体外培养细胞的方法。

背景技术

支原体污染是细胞培养、基础研究和生物制品等研究面临的主要问题。虽然支原体感染可能持续很长时间且没有明显的细胞损伤，不像其他细菌或真菌污染带来的可见性，但是却对细胞内源活性、增殖等功能具有明显影响，进而引起相关实验结果的误差。支原体阳性细胞培养本是感染的主要来源，为防止污染物扩散通常需将阳性培养物丢弃并替换。如果认为培养物不可替代或丢弃，则需要采取可有效消除支原体污染的技术方法。近年来，已经采用了许多方法，包括抗生素使用，裸鼠体内传代或者在软琼脂中培养等技术。去除支原体污染较为费时，且具有污染复发的风险。

发明内容

本申请的目的是，克服现有技术的缺陷，提供一种操作简便，对细胞生长的影响小的支原体清除组合物，以及该组合物处理体外培养细胞的方法。

为达到以上技术目的，本申请采用的技术方案如下：

第一方面，提供一种支原体清除组合物，其包括以下组分：

红霉素，使用终浓度为10～40μM，

氯霉素，使用终浓度为10～40μM，

泰乐菌素，使用终浓度为10～40μM，

环丙沙星，使用终浓度为4μg/mL。

优选地，所述红霉素、氯霉素和泰乐菌素使用时分别溶解于二甲基亚砜；所述环丙沙星使用时溶解于氯化钠。

第二方面，所述支原体清除组合物在处理体外培养细胞中的应用。

优选地，所述体外培养细胞为肝细胞。进一步优选地，所述肝细胞为C3A肝癌细胞和HepG2肝癌细胞。

第三方面，所述支原体清除组合物处理体外培养细胞的方法，包括以下步骤：

活化待处理细胞；

置换含支原体清除组合物和血清的培养基；

连续培养2～3周，直至检测支原体的结果为阴性；

其中，所述支原体清除组合物包括终浓度分别为10～40μM的红霉素、10～40μM的氯霉素、10～40μM的泰乐菌素和4μg/mL的环丙沙星。

进一步地，所述活化待处理细胞的步骤包括：

重悬贴壁生长的待处理细胞；

利用不含血清的培养基贴壁培养至细胞密度为60％～90％；

调整细胞浓度至每50ml培养基细胞数量小于或等于5x10⁶个。

优选地，所述培养基为DMEM细胞培养基或MEM细胞培养基；所述血清为胎牛血清，使用终浓度为10％的体积百分比。

进一步地，所述连续培养2～3周，包括每24小时更换一次新鲜培养基。

与现有技术相比较，本申请具有如下优势：

(1)本申请的支原体清除组合物，组合物中的各种抗生素在临床上用于治疗支原体引起的各种疾病已经有成熟的应用，将该组合物应用于体外培养的细胞，可为临床治疗类细胞在去除支原体方面提供治疗依据和应用参考；