[发明专利]进气装置及反应腔室

权利要求书

1.一种进气装置，所述进气装置用于与反应腔室连通，所述反应腔室包括腔室本体(100)和喷淋头(500)，所述喷淋头(500)设置于所述腔室本体(100)的顶部，所述进气装置用于和所述喷淋头(500)连通，其特征在于，所述进气装置包括：

第一管道(200)，所述第一管道(200)用于与所述喷淋头(500)相连通，所述第一管道(200)的侧壁开设有第一通孔(210)，所述第一管道(200)的进气端用于通入第一反应气体或清洗气；

进气组件(300)，所述进气组件(300)包括组件本体(310)，所述组件本体(310)套设于所述第一管道(200)的外侧，所述组件本体(310)内具有环绕所述第一管道(200)的至少两个通道(301)，所述至少两个通道(301)沿所述组件本体(310)的径向间隔分布，所述组件本体(310)的外侧设有第二通孔(3111)，所述第二通孔(3111)与其相邻近的所述通道(301)相连通，所述组件本体(310)内设有第三通孔(3121)，所述第三通孔(3121)用于连通相邻的两个所述通道(301)，所述组件本体(310)内侧设有第四通孔(3112)，所述第四通孔(3112)与其相邻近的所述通道(301)相连通，所述第四通孔(3112)通过所述第一通孔(210)与所述第一管道(200)相连通，所述进气组件(300)用于通过所述第二通孔(3111)向所述第一管道(200)通入第二反应气体和载气。

2.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第三通孔(3121)的数量为多个，多个所述第三通孔(3121)沿所述第一管道(200)的轴线方向间隔设置。

3.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第二通孔(3111)的入口侧和所述组件本体(310)的底端的距离与所述第二通孔(3111)的出口侧与所述组件本体(310)的底端的距离不同；或，

所述第二通孔(3111)的入口侧与所述组件本体(310)的底端的距离与所述第二通孔(3111)的出口侧与所述组件本体(310)的底端的距离相同。

4.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述组件本体(310)包括筒体外套(311)和至少一个筒体(312)，所述筒体外套(311)的底端至顶端的方向上开设有凹槽，所述至少一个筒体(312)位于所述凹槽内，所述筒体(312)与所述凹槽的侧壁以及相邻的两个所述筒体(312)之间围成所述通道(301)，所述第三通孔(3121)开设于所述筒体(312)，所述第二通孔(3111)和所述第四通孔(3112)均开设于所述筒体外套(311)。

5.根据权利要求4所述的进气装置，其特征在于，所述凹槽为楔形槽，所述筒体(312)位于所述楔形槽内，且所述筒体(312)的一端与所述楔形槽的槽底相连接。

6.根据权利要求4所述的进气装置，其特征在于，所述进气组件(300)还包括底座(320)，所述底座(320)开设有安装孔(321)，所述底座(320)设置于所述组件本体(310)的底端与所述腔室本体(100)的顶端之间，所述第一管道(200)贯穿所述安装孔(321)，并与所述喷淋头(500)相连通，所述底座(320)封堵所述凹槽的槽口。

7.根据权利要求5所述的进气装置，其特征在于，所述筒体(312)数量为一个，所述筒体(312)将所述凹槽分成两个对称的所述通道(301)。

8.根据权利要求5所述的进气装置，其特征在于，所述楔形槽的底面和内侧面均为敞口结构。

9.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，所述第一管道(200)的进气端设置有等离子体清洗装置(400)，且与所述等离子体清洗装置(400)相连通，所述第一管道(200)的出气端与所述喷淋头(500)相连通；所述进气装置还包括第二管道(410)，所述第二管道(410)与所述等离子体清洗装置400)相连通，所述第二管道(410)用于通入所述清洗气体或所述第一反应气体。

10.一种反应腔室，包括：腔室本体(100)和喷淋头(500)，所述喷淋头(500)设置于所述腔室本体(100)上，其特征在于，还包括权利要求1至9中任一项所述的进气装置，所述进气装置与所述喷淋头(500)连通。