[发明专利]一种准直光栅及其制作方法、彩膜基板、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110423166.4 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113031142A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 李文波;周健 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02F1/1335;G06K9/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张帆
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光栅 及其 制作方法 彩膜基板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种准直光栅,其特征在于,包括基板和设置在所述基板上的光栅结构,其中:

所述光栅结构包括多个对应不同颜色光的子光栅结构,各子光栅结构包括周期排布的透光部和不透光部,各子光栅结构用于将入射的对应颜色的光转化为准直光出射。

2.根据权利要求1所述的准直光栅,其特征在于,

所述透光部包括第一透光部和第二透光部,各子光栅结构包括设置在所述基板上的第一透光部、设置在所述第一透光部上的不透光部、以及覆盖所述第一透光部和不透光部的第二透光部;

或者

所述透光部包括第三透光部,各子光栅结构包括设置在所述基板上的不透光部、以及覆盖所述基板和不透光部的第三透光部;

或者

所述透光部包括第四透光部,各子光栅结构包括设置在所述基板上的遮光部、设置在所述遮光部上的不透光部、以及覆盖所述基板和不透光部的第四透光部。

3.根据权利要求2所述的准直光栅,其特征在于,所述光栅结构包括红色子光栅结构、绿色子光栅结构和蓝色子光栅结构,所述透光部为氮化硅材料。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的准直光栅,其特征在于,

所述红色子光栅结构、绿色子光栅结构和蓝色子光栅结构的周期为第一预设周期;所述红色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第一预设占空比;所述绿色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第二预设占空比;所述蓝色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第三预设占空比;

或者

所述红色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第四预设占空比,所述红色子光栅结构的周期为第二预设周期;所述绿色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第四预设占空比,所述绿色子光栅结构的周期为第三预设周期;所述蓝色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第四预设占空比,所述蓝色子光栅结构的周期为第四预设周期。

5.一种制作权利要求1-4中任一项所述的准直光栅的制作方法,其特征在于,包括:

在基板上形成光栅结构,所述光栅结构包括多个对应不同颜色光的子光栅结构,各子光栅结构包括周期排布的透光部和不透光部,各子光栅结构用于将入射的对应颜色的光转化为准直光出射。

6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述在基板上形成光栅结构进一步包括:

分别在基板上对应于待形成的各子光栅结构的位置上形成第一透光部;

在所述第一透光部上形成不透光部;

形成覆盖所述第一透光部和不透光部的第二透光部;

或者

分别在基板上对应于待形成的各子光栅结构的位置上形成图案化的不透光部;

形成覆盖所述基板和不透光部的第三透光部;

或者

在基板上形成遮光部材料层;

在所述遮光部材料层上形成不透光部材料层;

图案化所述遮光部材料层和所述不透光部材料层形成遮光部和不透光部;以及

形成覆盖所述基板和不透光部的第四透光部。

7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述光栅结构包括红色子光栅结构、绿色子光栅结构和蓝色子光栅结构,其中

所述红色子光栅结构、绿色子光栅结构和蓝色子光栅结构的周期为第一预设周期,所述红色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第一预设占空比,所述绿色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第二预设占空比,所述蓝色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第三预设占空比;

或者

所述红色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第四预设范围,所述红色子光栅结构的周期为第二预设周期;所述绿色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第四预设范围,所述绿色子光栅结构的周期为第三预设周期;所述蓝色子光栅结构的不透光部和周期的占空比为第四预设范围,所述蓝色子光栅结构的周期为第四预设周期。

8.一种彩膜基板,其特征在于,包括如权利要求1-4中任一项所述的准直光栅,以及设置在所述准直光栅远离基板一侧的并且与所述准直光栅的各子光栅结构对应的彩膜层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110423166.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top