[发明专利]边缘环、载置台以及基板处理装置在审

专利信息
申请号: 202110372663.6 申请日: 2021-04-07
公开(公告)号: CN113496925A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 千叶谅;永山晃;佐佐木康晴;佐藤大树;富冈武敏 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 边缘 载置台 以及 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种边缘环,其配置于基板的周缘,该边缘环以如下方式形成:

以将上述边缘环的中心轴线上的一点设定为中心点的、上述边缘环的内径以上外径以下的直径的假想圆为基准,自上述假想圆上的多个点至上述边缘环的下表面的垂直方向的高度的最大值与最小值的差值的绝对值为预定的上限值以下。

2.根据权利要求1所述的边缘环,其中,

上述上限值为20μm。

3.根据权利要求1所述的边缘环,其中,

上述上限值为15μm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的边缘环,其中,

上述边缘环的下表面以上述边缘环的外周部比内周部低的方式倾斜形成。

5.一种载置台,其具有用于载置配置于基板的周缘的边缘环的边缘环载置面,该载置台以如下方式形成:

以将上述载置台的中心轴线上的一点设定为中心点的、上述边缘环载置面的内径以上外径以下的直径的假想圆为基准,自上述假想圆上的多个点至上述边缘环载置面的垂直方向的高度的最大值与最小值的差值的绝对值为预定的上限值以下。

6.根据权利要求5所述的载置台,其中,

上述载置台具有用于将上述边缘环静电吸附于边缘环载置面的静电卡盘。

7.一种基板处理装置,其具有:

边缘环,其配置于基板的周缘;以及

载置台,其具有边缘环载置面,

该基板处理装置以如下方式形成:在上述边缘环载置面和上述边缘环的下表面中,以将上述边缘环或上述载置台的中心轴线上的一点为中心点的、上述边缘环的内径以上外径以下的直径的假想圆或上述边缘环载置面的内径以上外径以下的直径的假想圆为基准,通过上述假想圆上的多个点的各点的上述边缘环载置面与上述边缘环的下表面之间的间隙的高度的最大值与最小值的差值的绝对值为预定的上限值以下。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110372663.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top