[发明专利]显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110337580.3 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN113097416A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 唐甲 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种显示面板及其制备方法。所述显示面板中包括阵列基板、辅助电极、平坦层、第一像素限定层、第二像素限定层以及发光器件。所述第一像素限定层和所述第二像素限定层互相交叉设置在所述平坦层上,围成凹槽的同时形成交叠区域。所述交叠区域设有通孔,所述通孔与所述辅助电极相对设置。所述发光器件设于所述第一像素限定层及所述第二像素限定层顶面,且延伸至所述通孔的孔壁及所述凹槽的侧壁。所述发光器件包括阴极,所述阴极电连接至所述辅助电极。

技术领域

本发明涉及光学显示设备领域,特别是一种显示面板及其制备方法。

背景技术

与被动发光的液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)相比,自主发光的有机发光二极管显示器(Organic Light-Emitting Diode,OLED)具有响应速度快、对比度高、视角广等优点,并且容易实现柔性显示,因而被普遍应用。OLED显示器极有可能成为下一代显示技术的主流产品。

OLED面板工作时,由于走线距离的问题,显示面板的中心、四周边缘等区域会有IRdrop(压降)的问题,导致显示面板中的电压分布均匀,从而导致显示画面的亮度也不均匀,因此需额外在显示面板中制备辅助电极,给压降较大的区域额外施加辅助电压,使整个面板工作时画面显示均一稳定。但现有技术中设计的辅助电极与显示器件的搭接结构会影响显示面板的开口率,且制备成本高、制备流程复杂,不具备量产条件。

发明内容

本发明的目的是提供一种显示面板及其制备方法,以解决现有技术中辅助电极与显示器件的搭接结构会影响显示面板的开口率,且制备成本高、制备流程复杂,不具备量产条件等问题。

为实现上述目的,本发明提供一种显示面板,所述显示面板中包括阵列基板、辅助电极、平坦层、第一像素限定层、第二像素限定层以及发光器件。

所述第一像素限定层具有若干彼此平行的第一像素限定条。所述第一像素限定条设于所述平坦层的顶面,相邻的两个第一像素限定条之间存在第一间隙。

所述第二像素限定层中具有若干彼此平行的第二像素限定条。所述第二像素限定条交叉设置于所述第一像素限定条顶面,且延伸至多个第一间隙处的平坦层顶面。

所述第二像素限定条与所述第一像素限定条的交叠区域设有通孔,所述通孔依次贯穿所述第二像素限定层、所述第一像素限定层及所述平坦层,且与所述辅助电极相对设置。两个相邻的第一像素限定条与两个相邻的第二像素限定条围成凹槽。

所述发光器件设于所述第一像素限定层及所述第二像素限定层顶面,且延伸至所述通孔的孔壁及所述凹槽的侧壁。所述发光器件包括阴极,所述阴极电连接至所述辅助电极。

进一步地,所述发光器件包括阳极以及有机发光层。所述阳极的底端贯穿所述平坦层及所述阵列基板,且连接至所述阵列基板内的源极,其顶端延伸至所述平坦层顶面。所述有机发光层设于所述凹槽内,且电连接至所述阳极。

进一步地,所述阳极顶端的中部形成所述凹槽的底面,所述阳极顶端的边缘处被第一像素限定条和/或第二像素限定条覆盖。

进一步地,所述发光器件还包括电子功能层和阴极。所述电子功能层贴附于所述第一像素限定层及所述第二像素限定层顶面,且延伸至所述通孔的孔壁、所述凹槽的侧壁及有机发光层的顶面。所述阴极贴附于所述电子功能层的顶面,且延伸至所述辅助电极。

进一步地,所述显示面板还包括若干底切层,所述底切层与所述阳极的顶端同层设置于所述平坦层顶面。所述底切层的一端位于所述交叠区域内,其另一端延伸至所述通孔中形成遮挡结构,所述遮挡结构与所述辅助电极边缘处的一部分相对设置。

本发明实施例中还提供一种显示面板的制备方法,所述显示面板制备方法中包括以下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110337580.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top