[发明专利]一种钙钛矿薄膜的制备方法及钙钛矿LED在审
申请号: | 202110283316.6 | 申请日: | 2021-03-16 |
公开(公告)号: | CN113066947A | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 陈丹;刘陶然;左玉华;郑军;刘智;成步文 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周天宇 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钙钛矿 薄膜 制备 方法 led | ||
本公开提供一种钙钛矿薄膜的制备方法,包括:S1,将(1‑溴乙基)苯、溴化铯、溴化铅、溴化锶溶解于有机溶剂中,形成前驱体溶液;S2,将前驱体溶液旋涂在基底上,退火加热,得到钙钛矿薄膜。本公开的方法操作简单,制备时间短,薄膜光致发光强度明显提升。本公开还提供一种钙钛矿LED。
技术领域
本公开涉及光电材料技术领域,具体涉及一种钙钛矿薄膜的制备方法及钙钛矿LED。
背景技术
钙钛矿材料作为直接带隙半导体材料,因其简单的制备工艺、高的载流子迁移率、较长的载流子寿命及带隙可调等优良性质,逐渐成为固体发光材料中的优良备选方案,其在发光二极管领域的应用也成为科研热点。
目前,绿光、红光及蓝光钙钛矿LED的最高外量子效率均有大幅提升,鉴于外量子效率是衡量发光二极管性能的重要指标,许多研究都将目光聚焦于如何提高外量子效率,而基于钙钛矿薄膜对钙钛矿LED寿命影响的研究较少被报道。
钙钛矿薄膜的发光性能及稳定性依旧是限制钙钛矿LED发展及寿命的主要因素,特别是钙钛矿层在高电压或大电流下的分解问题亟待解决。对于提高钙钛矿LED寿命的主要方法是采用混合不同比例卤素原子的方法,这种方法不仅会影响钙钛矿层的成膜质量,还会影响钙钛矿层的发光带隙,进而导致发光不纯等问题。因此,设计一种高发光强度且能提高钙钛矿LED寿命的钙钛矿材料制备方法是很有实际应用意义的。
发明内容
(一)要解决的技术问题
针对上述问题,本公开提供了一种钙钛矿薄膜的制备方法及钙钛矿LED,用于至少部分解决传统方法发光强度弱、成膜质量差等技术问题。
(二)技术方案
本公开一方面提供了一种钙钛矿薄膜的制备方法,包括:S1,将(1-溴乙基)苯、溴化铯、溴化铅、溴化锶溶解于有机溶剂中,形成前驱体溶液;S2,将前驱体溶液旋涂在基底上,退火加热,得到钙钛矿薄膜。
进一步地,S1中(1-溴乙基)苯、溴化铯、溴化铅、溴化锶的摩尔比为1∶1∶A∶B,其中,0≤A≤1.52,0<B≤1.52。
进一步地,S2具体包括:将前驱体溶液静态旋涂在基底上;使基底加速旋转;在基底旋转过程中,将反溶剂动态滴涂在钙钛矿上。
进一步地,S1中的有机溶剂包括二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺或其两者的混合物。
进一步地,S2中退火加热的温度范围为80~120℃,时间范围为20~40min。
进一步地,S2中钙钛矿薄膜的厚度范围为40~150nm。
本公开另一方面提供了一种钙钛矿LED,依次包括:ITO导电层;空穴注入层;钙钛矿发光层,其包括如前述钙钛矿薄膜的制备方法得到的钙钛矿薄膜;电子注入层;对电极层。
进一步地,空穴注入层由PEDOT∶PSS混合溶液旋涂制备而成,其中PEDOT∶PSS为聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚(苯乙烯磺酸酯)。
进一步地,电子注入层由1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯蒸镀制成,其厚度为40~50nm。
进一步地,对电极层由Al蒸镀制成,其厚度为80~100nm。
(三)有益效果
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