[发明专利]显示面板、制作方法及显示装置在审
申请号: | 202110251300.7 | 申请日: | 2021-03-08 |
公开(公告)号: | CN113035922A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 朱大勇;张伟;王凌飞;郑云蛟;李慧 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭栋梁 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,包括:衬底及设置在所述衬底上的PLN层,所述PLN层上设有绑定区和显示区,所述绑定区用于设置引脚,所述显示区用于设置发光元件,所述引脚包括功能导电块及虚拟导电块,其特征在于,
所述虚拟导电块上设有凹陷区,所述虚拟导电块及所述PLN层上设置有无机层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凹陷区侧面设置有突出部。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述突出部为条形结构和/或圆形结构。
4.根据权利要求2或3所述的显示面板,其特征在于,所述虚拟导电块包括多层金属层,所述突出部形成在至少一层金属层上。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述虚拟导电块包括叠层设置在所述PLN层上的第一金属层、第二金属层及第三金属层,所述突出部形成在所述第一金属层及所述第三金属层上。
6.根据权利要求1-3、5任一项所述的显示面板,其特征在于,所述凹陷区设置在所述虚拟导电块中间位置,或者均匀分布在所述虚拟导电块上。
7.一种显示面板制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底上沉积PLN层以及引脚,所述引脚包括功能导电块及虚拟导电块;
对所述虚拟导电块进行刻蚀处理,形成具有凹陷区的图案化膜层;
在所述虚拟导电块及所述PLN层上沉积无机层。
8.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述虚拟导电块包括设置在顶层及底层的第一金属层及设置在所述第一金属层之间的第二金属层,所述方法还包括:
通过侧刻蚀对所述凹陷区侧面进行刻蚀,使得凹陷区侧面位于顶层及底层的第一金属层突出。
9.根据权利要求7所述的显示面板制作方法,其特征在于,所述对所述虚拟导电块进行刻蚀处理,形成具有凹陷区的图案化膜层包括:
对所述虚拟导电块进行刻蚀处理,形成凹陷区,使得所述凹陷区侧面形成条形和/或圆形凸起结构。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利1-6任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的