[发明专利]保护电路和存储器在审

专利信息
申请号: 202110069469.0 申请日: 2021-01-19
公开(公告)号: CN112885387A 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 刘格言;谷银川 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G11C11/4078 分类号: G11C11/4078;G11C29/08
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 张娜;黄健
地址: 230011 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 保护 电路 存储器
【说明书】:

本申请提供一种保护电路和存储器。该电路应用于芯片中,该电路包括:第一保护单元和第一被保护元件,其中,第一保护单元接收第一输入信号和控制信号,并输出第一输出信号,第一被保护元件包括第一P型晶体管,P型晶体管的栅极接收第一输出信号,其中,当芯片进入老化测试时,第一输出信号为高电平信号。从而,避免了芯片在进入老化测试时对第一P型晶体管的NBTI效应带来的损伤,提高芯片的可靠性。

技术领域

本申请涉及集成电路技术领域,尤其涉及一种保护电路和存储器。

背景技术

负偏压温度不稳定性(Negative Bias Temperature Instability,NBTI)效应,是指在高温下对PMOS器件的栅极施加负电压而引起的一系列电学参数的退化。

通常,在芯片(也称为集成电路)出厂前需要进行老化测试,芯片中包括PMOS器件,在进行老化测试时会以较高的偏置电压和较高的温度进行,而NBTI效应会随着PMOS器件栅极上的偏置电压的增加和温度的升高而更加显著(对PMOS器件而言,栅极上的偏置电压越低、温度越高,NBTI效应越显著),因此在测试过程中会由于NBTI效应造成对芯片中PMOS器件的损伤,进而造成对芯片的损伤。

如何避免在老化测试时对芯片中PMOS器件的损伤,以保证PMOS器件的性能,是亟需解决的问题。

发明内容

本申请提供一种保护电路和存储器,以避免在老化测试时对芯片中PMOS器件的损伤。

第一方面,本申请提供一种保护电路,包括:

第一保护单元,所述第一保护单元接收第一输入信号和控制信号,并输出第一输出信号;

第一被保护元件,其包括第一P型晶体管,所述第一P型晶体管的栅极接收所述第一输出信号;

其中,当所述芯片进入老化测试时,所述第一输出信号为高电平信号。

在一种可实施的方式中,当所述第一输入信号为高电平信号,所述控制信号为第一电平信号时,所述第一输出信号为高电平信号,所述控制信号为第二电平信号时,所述第一输出信号为低电平信号。

在一种可实施的方式中,所述芯片进入老化测试时,所述控制信号为所述第一电平信号,所述芯片进入其他测试时,所述控制信号为所述第二电平信号,所述其他测试为不包含所述老化测试的测试状态。

在一种可实施的方式中,所述第一保护单元包括与非门电路、或非门电路、与或非门电路、与门电路、或门电路、异或门电路、同或门电路、传输门、触发器、锁存器和寄存器中的任一个。

在一种可实施的方式中,所述第一被保护元件还包括第一N型晶体管。

在一种可实施的方式中,所述第一P型晶体管的栅极和所述第一N型晶体管的栅极连接,所述第一P型晶体管的源极连接电源端,所述第一P型晶体管的漏极与所述第一N型晶体管漏极连接,所述第一N型晶体管的源极连接接地端。

在一种可实施的方式中,还包括:

第二保护单元和第二被保护元件;

所述第二保护单元接收第二输入信号和所述控制信号,并输出第二输出信号;

所述第二被保护元件包括第二P型晶体管,所述第二P型晶体管的栅极接收所述第二输出信号;

其中,当所述芯片进入老化测试时,所述第二输出信号为高电平信号。

在一种可实施的方式中,当所述第二输入信号为高电平信号,所述控制信号为第一电平信号时,所述第二输出信号为高电平信号,所述控制信号为第二电平信号时,所述第二输出信号为低电平信号。

在一种可实施的方式中,所述第二被保护元件还包括第二N型晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110069469.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top