[发明专利]装载端口单元、包括装载端口单元的储存设备和排气方法

说明书

一种用于储存对象的储存设备，包括：装载端口单元，容座装载到所述装载端口单元上或从所述装载端口单元拆卸，其中所述容座将所述对象容纳在由主体和覆盖所述主体的盖形成的储存空间中；以及控制器。所述装载端口单元包括具有内部空间的壳体；台架构件，所述台架构件设置在所述壳体上，并且通过移动所述主体而打开所述储存空间，所述容座放置在所述台架构件上；以及排气管，所述排气管使彼此间隔开的所述主体和所述盖之间的间隔空间进行排气。所述排气管的一个端部面向所述间隔空间，并且所述排气管的相对的端部面向所述内部空间。

技术领域

本文所述的本发明构思的实施例涉及装载端口单元、包括所述装载端口单元的储存设备和排气方法。

背景技术

光掩模(或光刻掩模或掩模版)用于传送光致抗蚀剂图案。光掩模在储存在容器(或载体、盒子或盒)中的状态下在光刻站、处理站和储存站之间移动。

如上所述，因为光掩模用于传送光致抗蚀剂图案，所以光掩模需要高清洁水平。因此，必须在其中储存光掩模的容器和用于储存光掩模的储存站中最小化诸如微粒的杂质到光掩模的附着。为此，当光掩模储存在储存站中时，容器放置在储存站的装载端口单元上并打开。储存在容器中的光掩膜被携带到储存站的检查构件中。检查构件检查光掩模的清洁水平。当光掩模满足要求的清洁水平时，光掩模储存在储存站中，并且当光掩模不满足要求的清洁水平时，光掩模被携带到外部而不被储存在储存站中。因此，满足要求的清洁水平的光掩模储存在储存站中。

然而，在打开容器以将光掩模携带到储存站中的过程中，可能由于容器的机械摩擦而产生颗粒。此外，当容器打开时，光掩模暴露于储存站中的空间。在这种情况下，漂浮和/或保留在储存站中的颗粒可以附着到光掩模。

发明内容

本发明构思的实施例提供用于将对象的清洁水平维持在高水平的装载端口单元、包括装载端口单元的储存设备以及排气方法。

本发明构思的实施例提供用于最小化诸如颗粒的杂质到对象的附着的装载端口单元、包括装载端口单元的储存设备以及排气方法。

本发明构思的实施例提供用于最小化漂浮和/或残留在装载端口单元中的颗粒到对象的附着的装载端口单元、包括装载端口单元的储存设备以及排气方法。

有待由发明构思解决的技术问题不限于上文所提及的问题，且发明构思所属的本领域的技术人员根据以下描述将清楚地理解本文中未提及的任何其它技术问题。

根据示例性实施例，用于储存对象的储存设备包括装载端口单元，容座装载到所述装载端口单元上或从所述装载端口单元拆卸，其中所述容座将所述对象容纳在由主体和覆盖所述主体的盖形成的储存空间中；储存单元，所述储存单元具有所述对象储存在其中的储存空间；传送单元，所述传送单元在所述装载端口单元和所述储存单元之间传送所述对象；以及控制器。所述装载端口单元包括具有内部空间的壳体；台架构件，所述台架构件设置在所述壳体上并且通过移动所述主体而打开所述储存空间，所述容座放置在所述台架构件上；以及排气管，所述排气管使彼此间隔开的所述主体和所述盖之间的间隔空间进行排气。所述排气管的一个端部面向所述间隔空间，并且所述排气管的相对的端部面向所述内部空间。第一风扇和第二风扇设置在所述排气管中，所述第二风扇被定位成比所述第一风扇更加远离所述排气管的所述一个端部。所述控制器控制所述第一风扇和所述第二风扇，使得在驱动所述第一风扇之后驱动所述第二风扇。

根据一个实施例，所述控制器可以控制所述第一风扇和所述第二风扇，使得在所述台架构件完全移动所述主体之后驱动所述第二风扇。

根据一个实施例，所述装载端口单元还可以包括检查所述对象的检查构件，并且所述控制器可以控制所述第一风扇、所述第二风扇和所述传送单元，使得在将支撑在所述主体上的所述对象携带到所述检查构件中之后驱动所述第二风扇。

根据一个实施例，所述控制器可以控制所述第一风扇和所述第二风扇，使得在将所述对象在所述检查构件中被彻底检查之后驱动所述第二风扇。