[发明专利]化学放大型感光性组合物、感光性干膜及其制造方法、抗蚀剂膜的制造方法及酸扩散抑制剂在审
| 申请号: | 202080089487.9 | 申请日: | 2020-12-01 |
| 公开(公告)号: | CN114902134A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
| 发明(设计)人: | 增田靖男;川上晃也;海老泽和明 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 杨楷;毛立群 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 化学 大型 感光性 组合 及其 制造 方法 抗蚀剂膜 扩散 抑制剂 | ||
1.一种化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,含有:
产酸剂(A),通过活性光线或放射线的照射而产生酸;树脂(B),对碱的溶解性因酸的作用而增大;酸扩散抑制剂(C),
所述酸扩散抑制剂(C)包含以下述式(C1)表示的化合物,
[化1]
式(C1)中,
R1c为烷基或芳烷基,
R2c为烷基或芳烷基,
R3c为氢原子或烷基,
R4c为单键或亚烷基,
n1为0以上5以下的整数,
n2为0以上5以下的整数,
n3为0或1,
其中,在n3为1的情况下,n1以及n2不同时为0。
2.如权利要求1所述的化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,
所述n3为1,所述R4c为单键。
3.如权利要求2所述的化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,
作为所述R1c的所述烷基或所述芳烷基的碳原子数为6以上10以下,作为所述R2c的所述烷基或所述芳烷基的碳原子数为6以上10以下。
4.如权利要求1所述的化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,
所述n3为0,所述R4c为亚烷基。
5.如权利要求1~4的任一项所述的化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,
所述酸扩散抑制剂(C)的含量相对于树脂(B)100质量份为0.01质量份以上20质量份以下。
6.如权利要求1~5的任一项所述的化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,
还含有碱可溶性树脂(D)。
7.如权利要求6所述的化学放大型正型感光性组合物,其特征在于,
所述碱可溶性树脂(D)包含从酚醛清漆树脂(D1)、聚羟基苯乙烯树脂(D2)以及丙烯酸树脂(D3)构成的组中选择的至少1种树脂。
8.一种感光性干膜,其特征在于,
具有基材薄膜与形成于所述基材薄膜的表面的感光性层,所述感光性层由权利要求1~7的任一项所述的化学放大型正型感光性组合物构成。
9.一种感光性干膜的制造方法,其特征在于,包括:
在基材薄膜上涂布权利要求1~7的任一项所述的化学放大型正型感光性组合物从而形成感光性层。
10.一种图案化的抗蚀剂膜的制造方法,其特征在于,包括:
层叠工序,在基板上层叠由权利要求1~7的任一项所述的化学放大型正型感光性组合物构成的感光性层;
曝光工序,对所述感光性层位置选择性地照射活性光线或放射线;与
显影工序,对曝光后的所述感光性层进行显影。
11.一种酸扩散抑制剂,掺混在包含通过活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)与对碱的溶解性因酸的作用而增大的树脂(B)的化学放大型正型感光性组合物中,其特征在于,
所述酸扩散抑制剂包含以下述式(C1)表示的化合物,
[化2]
式(C1)中,
R1c为烷基或芳烷基,
R2c为烷基或芳烷基,
R3c为氢原子或烷基,
R4c为单键或亚烷基,
n1为0以上5以下的整数,
n2为0以上5以下的整数,
n3为0或1,
其中,在n3为1的情况下,n1以及n2不同时为0。
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