[发明专利]内嵌微波批量除气腔室在审

专利信息
申请号: 202080044325.3 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN113994461A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: R·高塔姆;A·朱普迪;高德丰;P·P·饶;V·拉马钱德兰;欧岳生;和田优一;蔡振雄;K·L·刘 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B01J19/12;H05B6/80
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 微波 批量 气腔室
【权利要求书】:

1.一种基板处理腔室,包括:

腔室主体,所述腔室主体具有侧壁,所述侧壁限定具有多边形形状的内部体积;

能选择性密封的细长开口,所述能选择性密封的细长开口设置在所述腔室主体的上部中以用于将一个或多个基板转移进入或离开所述腔室主体;

漏斗,所述漏斗设置在所述腔室主体的第一端处,其中所述漏斗的开口的尺寸沿着从所述腔室主体的外表面到所述内部体积的方向增大;以及

泵端口,所述泵端口设置在与所述漏斗相对的所述腔室主体的第二端处。

2.如权利要求1所述的基板处理腔室,其中所述漏斗的面向内部体积的表面布置成形成矩形横截面的漏斗开口。

3.如权利要求1所述的基板处理腔室,进一步包括:

穿过所述漏斗的表面的多个开口以使气体流入所述内部体积。

4.如权利要求1所述的基板处理腔室,进一步包括:

在所述侧壁中的多个开口以使气体流入所述内部体积。

5.如权利要求1至4中任一项所述的基板处理腔室,进一步包括:

RF垫片槽,所述RF垫片槽设置在所述腔室主体的外部表面中并且围绕所述能选择性密封的细长开口。

6.如权利要求1至4中任一项所述的基板处理腔室,进一步包括O形环槽和RF垫片槽,所述O形环槽设置在所述腔室主体的顶表面上并且围绕所述侧壁,所述RF垫片槽设置在所述侧壁与所述O形环槽之间。

7.如权利要求1至4中任一项所述的基板处理腔室,进一步包括:

在所述腔室主体的腔室底板上的开口,所述开口被配置成容纳基板支撑件。

8.如权利要求1至4中任一项所述的基板处理腔室,进一步包括:

第二能选择性密封的细长开口,所述第二能选择性密封的细长开口与所述能选择性密封的细长开口相对,以用于将一个或多个基板转移进入或离开所述腔室主体。

9.一种除气腔室,包括:

腔室主体,所述腔室主体包括具有多边形形状的内部体积,其中所述腔室主体包括能选择性密封的细长开口以用于转移一个或多个基板进入或离开所述腔室主体;

基板支撑件,所述基板支撑件设置在所述内部体积中并且被配置成支撑一个或多个基板,其中所述基板支撑件至少能移动到与所述细长开口对准的升高位置以及降低位置;

热源,所述热源被配置成在所述一个或多个基板被设置在所述基板支撑件上时加热所述一个或多个基板;

在所述腔室主体中的多个开口,所述多个开口被配置成使气体流入所述内部体积;以及

排气端口,所述排气端口设置在所述腔室主体中。

10.如权利要求9所述的除气腔室,其中所述基板支撑件被配置成支撑多个基板,并且所述热源是微波源。

11.如权利要求10所述的除气腔室,其中所述腔室主体包括漏斗,所述漏斗耦合至所述微波源并且与所述排气端口相对,其中所述漏斗的开口的尺寸沿着朝向所述内部体积的方向增大。

12.如权利要求11所述的除气腔室,其中所述漏斗具有矩形横截面形状。

13.如权利要求9至12中任一项所述的除气腔室,其中所述基板支撑件包括多个支撑构件,所述多个支撑构件被配置成在垂直间隔开的定向中支撑多个基板。

14.如权利要求9至12中任一项所述的除气腔室,进一步包括网筛,所述网筛设置在所述腔室主体与所述排气端口之间,其中所述网筛包括被配置成减少或消除通过所述排气端口的微波泄漏的多个开口。

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