[实用新型]一种制备碳化硅粉料的装置有效
申请号: | 202023350223.0 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN214192589U | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 热尼亚;靳婉琪;王超 | 申请(专利权)人: | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
主分类号: | C01B32/984 | 分类号: | C01B32/984 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 冯妙娜 |
地址: | 250118 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 碳化硅 装置 | ||
本实用新型公开了一种制备碳化硅粉料的装置,所述装置包括:炉体,所述炉体设置有加热装置;电极,所述电极至少部分贯穿炉体内部,位于炉体内部的电极部分的表面至少部分覆盖有碳源,所述电极通电后用于对碳源进行加热;坩埚,所述坩埚置于炉体内部,所述电极位于坩埚的上方,所述坩埚和电极发生相对位移,以使得电极能够进入或远离坩埚内。通过设置电极,电极至少部分贯穿炉体内部,炉体内部的电极部分用于固定碳源原料,对电极进行通电加热,使得固定在电极上的碳源原料快速升温并与硅液反应,提高了碳化硅粉料的生产效率和质量。
技术领域
本申请涉及制备碳化硅粉料的装置,属于碳化硅制备设备的技术领域。
背景技术
作为可大规模工业化生产的第三代半导体材料,市场对碳化硅单晶的要求日益增高。为缩短碳化硅单晶的生长时间、降低缺陷率,人们对于生长碳化硅晶棒用的碳化硅粉料的要求也随之升高。除了碳化硅粉料的杂质含量,对其晶粒结构、粒度、堆积密度及产率等也均有要求。
传统工艺一般采用高温自蔓延反应或CVD法,其所得的碳化硅粉料的粒度小、堆积密度低,在PVT法生长碳化硅单晶的过程中生长效率低且易造成缺陷。目前可采用液相法合成碳化硅粉体,通过加热的方式将硅在坩埚中融化,形成硅液,再将头部贴有籽晶的石墨轴伸入到溶液中进行生长。现有的装置仅利用炉体外的加热装置装置进行加热,不能满足碳化硅粉料的生产效率和质量的问题。
实用新型内容
为了解决上述问题,本申请提供了一种制备碳化硅粉料的装置,通过设置电极,可对电极进行通电加热,使得固定在电极上的碳源原料快速升温并与硅液反应,提高了碳化硅粉料的生产效率和质量。
根据本申请的一个方面,提供了一种制备碳化硅粉料的装置,所述装置包括:
炉体,所述炉体设置有加热装置;
电极,所述电极至少部分贯穿炉体内部,位于炉体内部的电极部分的表面至少部分覆盖有碳源,所述电极通电后用于对碳源进行加热;
坩埚,所述坩埚置于炉体内部,所述坩埚内用于放置硅源,所述电极位于坩埚的上方,所述坩埚和电极发生相对位移,以使得电极上的碳源能够接触或远离坩埚内的硅源。
可选地,所述电极包括碳源,所述碳源与外部电源连接。
可选地,所述电极包括固定件和碳源,所述碳源固定在固定件的表面,所述固定件与外部电源连接。
可选地,所述炉体的顶部设置炉盖,所述电极穿过炉盖上的通孔伸入到炉体内部;
所述电极沿坩埚的轴向延伸,
所述电极连接冷却水管道。
可选地,所述加热装置包括第一加热装置和第二加热装置,所述第一加热装置对炉体内上部进行加热,所述第二加热装置对炉体内下部进行加热。
可选地,所述加热装置选自电磁感应线圈或电阻丝。
可选地,所述炉体内部设置隔板,所述隔板关闭时,将炉体内部分隔为两部分;所述隔板打开时,所述炉体内部连通。
可选地,所述隔板沿炉体的径向延伸,所述隔板的侧壁与炉体的内侧壁相配合
可选地,隔板为水冷隔板,所述水冷隔板具有水冷管道。
可选地,所述坩埚连接升降装置,所述升降装置用于控制坩埚上下移动;
升降装置包括支柱及由丝杠传动机构驱动的升降台,支柱的一端固定在坩埚的底部,另一端依次穿过炉体与升降台连接。
本实用新型的有益效果包括但不限于:
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