[实用新型]基板检测装置及基板处理系统

权利要求书

1.一种基板检测装置，检测基板处理液涂覆状态，其特征在于，

基板检测装置配置在基板被移送的路径上，并通过对基板表面进行光检测，将涂覆在基板表面的处理液的厚度划分为多个区域进行检测。

2.根据权利要求1所述的基板检测装置，其特征在于，

基板检测装置沿着与基板的移送方向垂直的路线划分多个区域，并且沿着基板的移送方向依次检测多个区域的处理液涂覆状态。

3.根据权利要求1所述的基板检测装置，其特征在于，包括:

第一检测部，其在从将处理液喷射到基板的处理液涂覆单元搬出基板的过程中，沿着基板的搬出方向，依次检测与基板的搬出方向垂直划分的基板的多个区域。

4.根据权利要求3所述的基板检测装置，其特征在于，还包括:

第二检测部，其在将基板搬入对涂覆有处理液的基板进行干燥的基板干燥单元的过程中，沿着基板的搬入方向，依次检测与基板的搬入方向垂直划分的基板的多个区域。

5.根据权利要求1所述的基板检测装置，其特征在于，包括：

光源，其将光照射到所述基板移送路径上的特定位置；以及

光传感器，其接收从基板反射过来的光，并从接收到的光中检测基板表面的处理液涂覆厚度。

6.根据权利要求5所述的基板检测装置，其特征在于，还包括：

控制部，其基于光传感器检测出的信息，分析基板多个区域各自的处理液涂覆厚度，并判断基板的处理液涂覆状态是否存在不良。

7.一种基板处理系统，其特征在于，包括：

处理液涂覆单元，其将处理液涂覆于基板；

基板干燥单元，其用于对涂覆有处理液的基板进行干燥；

基板移动单元，其从处理液涂覆单元中搬出基板，并将基板搬入基板干燥单元；

第一检测部，其在从处理液涂覆单元中搬出基板的过程中，检测基板的处理液涂覆状态；以及

第二检测部，其在将基板搬入基板干燥单元的过程中，检测基板的处理液涂覆状态。

8.根据权利要求7所述的基板处理系统，其特征在于，第一检测部及第二检测部包括：

光源，其朝向基板的被处理面照射光；以及

光传感器，其检测从被处理面反射过来的反射光，并对涂覆于被处理面的处理液的厚度进行检测。

9.根据权利要求7所述的基板处理系统，其特征在于，

第一检测部及第二检测部将基板的被处理面划分为多个区域，并对划分的各个区域的处理液厚度进行检测。

10.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，

第一检测部以与基板的搬出方向垂直的形式划分多个区域，并沿着基板的搬出方向，对多个区域的处理液涂覆厚度依次进行检测。

11.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，

第二检测部以与基板的搬入方向垂直的形式划分多个区域，并沿着基板搬入方向，对多个区域的处理液涂覆厚度依次进行检测。

12.根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，还包括：

控制部，其基于第一检测部及第二检测部的检测信息，对基板的处理工艺进行控制，

控制部设定基板的各个区域的处理液厚度的基准范围，当检测出的基板的各个区域的处理液厚度超出基准范围时，判断基板的处理液涂覆状态为不良。

13.根据权利要求12所述的基板处理系统，其特征在于，

当判断通过第一检测部检测出来的基板的处理液涂覆状态为不良时，控制部中止基板从处理液涂覆装置搬出至基板移动单元。