[实用新型]卷料固定装置及原子层沉积设备有效

专利信息
申请号: 202020673238.1 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN212610892U 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 李哲峰;乌磊;聆领安辛 申请(专利权)人: 深圳市原速光电科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/54
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 付海萍
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 固定 装置 原子 沉积 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种卷料固定装置及原子层沉积设备,其中,卷料固定装置包括第一承重座、第二承重座及卷料轴,第一承重座上设置有第一安全夹头,第二承重座与第一承重座相对设置,第二承重座上设置有第二安全夹头,卷料轴具有相对的安装端及驱动端,安装端与第二安全夹头转动连接,驱动端与第一安全夹头转动连接,并用于与卷料装置的驱动件驱动连接,以使卷料轴用于对缠绕设置于其上的待沉积样品进行卷料处理。本实用新型改进了卷料固定装置的结构,提升了卷料固定装置的装配效率,方便组装卷料固定装置的各零部件,节省了装配所需的时间。

技术领域

本实用新型涉及原子层沉积技术领域,尤其涉及一种卷料固定装置及原子层沉积设备。

背景技术

原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种在气相中使用连续化学反应的薄膜形成技术。原子层沉积与化学气相沉积的不同之处在于,原子层沉积使用前驱体和反应物交替性地施用,即在第一处理步骤或所谓的半循环期间,施用前驱体,前驱体以自行限制方式与基底表面反应,从而导致第一靶材沉积;在第二处理步骤或所谓的后半循环期间,施用反应物,反应物以自行限制方式与新形成的表面反应,从而沉积第二靶材。一个完整的原子层沉积循环导致靶材的一个单层的沉积。这使得原子层沉积在薄膜制备方面由许多优势。

现有的卷对卷式原子层沉积设备由反应腔体、驱动装置和至少两个卷料装置组成,反应腔体的内部具有多个气道、以及与气道的方向相交的用于待沉积样品穿过的通道,反应腔体上具有与多个气道相对应的多个进气口以及出气口,驱动装置向卷料装置的卷料轴输出动力以用于传动带状的待沉积样品。其中,卷料固定装置包括机座、承重座和卷料轴等,零部件数量较多,装配卷料轴与承重座十分繁琐,安装定位麻烦,需耗费大量时间装配,卷料固定装置的组装效率较低。因此,如何提升卷料固定装置的装配效率成为了一个颇为棘手的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种卷料固定装置,旨在提升卷料固定装置的装配效率,方便组装各零部件,节省装配所需的时间。

为实现上述目的,本实用新型提出一种卷料固定装置,用于原子层沉积设备,所述卷料固定装置包括:

第一承重座,所述第一承重座上设置有第一安全夹头;

第二承重座,与所述第一承重座相对设置,所述第二承重座上设置有第二安全夹头;

卷料轴,所述卷料轴具有相对的安装端及驱动端,所述安装端与所述第二安全夹头转动连接,所述驱动端与所述第一安全夹头转动连接,并用于与原子层沉积设备的驱动件驱动连接,以使所述卷料轴用于对缠绕设置于其上的待沉积样品进行卷料处理。

在一实施例中,所述第一安全夹头和所述第二安全夹头相对的一侧均开设有供所述卷料轴两端安装的安装口,所述安装口的内壁上设置有定位销,所述安装口向外凸设有抵接臂,所述抵接臂开设有导向槽;

所述卷料轴两端周壁上设置有与所述定位销相适配的凹槽,所述卷料轴的两端靠近所述凹槽位置分别环绕设置有导向块,所述定位销与所述凹槽抵接并将所述导向块卡入于所述导向槽内,以使所述卷料轴固定于所述第一安全夹头和所述第二安全夹头之间并可相对转动。

在一实施例中,所述第一安全夹头和第二安全夹头的外壁上套设有紧固拨盘,所述紧固拨盘外壁上插设有用于限制所述紧固拨盘相对于所述第一安全夹头和所述第二安全夹头位置的限位销;

所述紧固拨盘,用于锁紧固定所述卷料轴与所述第一安全夹头和所述第二安全夹头。

在一实施例中,所述导向块包括锁紧件及呈非封闭环状的夹持件,所述夹持件的形状与所述卷料轴两端对应位置形状相适配,所述夹持件的环内侧与所述卷料轴抵接并通过所述锁紧件可拆卸地锁紧固定,所述夹持件的环外侧与所述导向槽抵接,以使所述导向块卡入所述导向槽内。

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