[实用新型]等离子体沉积装置

说明书

本实用新型提供了等离子体沉积装置，包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，等离子体喷枪系统包括冷却系统，冷却系统包括第一冷却结构、第二冷却结构，还包括口径调节机构，具备管体、伸缩机构、弹性套，管体一端与第二通孔位于腔体内的端部固定，管体腔内设伸缩机构，多个伸缩机构分布在弹性套周侧且伸缩端与弹性套外周壁固定，弹性套一端开口与第二通孔相对，另端开口朝向腔体内，本等离子体沉积装置在第二通孔处安装口径调节机构，通过伸缩机构调节弹性套的腔道尺寸，从而实现出气口径的调节，使用方便，调节便利。

技术领域

本实用新型涉及等离子处理技术领域，尤其涉及等离子体沉积装置。

背景技术

低压等离子化学气相沉积技术(LPCVD)技术是常规的用来制备高质量薄膜的技术，如专利1中提出一种等离子体薄膜沉积装置，包括腔体、供气系统、等离子喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统及压力控制系统，以实现薄膜的快速沉积，但缺点在于，其气源通孔口径固定，不能满足不同的薄膜沉积需求，需更换管道，较为繁琐，降低效率，因此需另寻途径改进。

专利1：名称：一种等离子体薄膜沉积装置，授权公告号：CN203999809U。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供等离子体沉积装置，以解决上述问题。

本实用新型的技术方案是：

等离子体沉积装置，包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，等离子体喷枪系统包括冷却系统，冷却系统包括第一冷却结构、第二冷却结构，第一冷却结构中设置有第一通孔，第二冷却结构中设置有第二通孔，第二通孔两端分别与第一通孔、腔体连接，还包括口径调节机构，具备管体、伸缩机构、弹性套，管体一端与第二通孔位于腔体内的端部固定，管体腔内设伸缩机构，多个伸缩机构分布在弹性套周侧且伸缩端与弹性套外周壁固定，弹性套一端开口与第二通孔相对，另端开口朝向腔体内。

本等离子体沉积装置在第二通孔处安装口径调节机构，通过伸缩机构调节弹性套的腔道尺寸，从而实现出气口径的调节，使用方便，调节便利。

进一步，伸缩机构包括相套合的第一套筒和第二套筒、弹簧及气囊，气囊位于第一套筒内且抵接第一套筒内的第二套筒，弹簧套在第一套筒上以限位第二套筒。

本伸缩机构改进结构，在弹簧的弹力拉扯下，采用气囊推动第二套筒移动，气囊泄气，则弹簧复位第二套筒，以此调节弹性套的腔道口径，从而实现喷气口径的调节。

进一步，弹簧两端分别固定在第一套筒、第二套筒上。

进一步，管体周壁中空，气囊的进气口与管体中空腔道连通。

进一步，管体外周壁上设进气端，与管体中空腔道连通。

改进管体结构，通过中空腔道往气囊输气或泄气，进而调节弹性套腔道口径。

进一步，还包括弹性盖体，安装在管体两端，固定在弹性套与管壁之间，起密封作用。

附图说明

图1：实施例1中本实用新型的整体结构图；

图2：口径调节机构纵向剖面结构图；

图3：口径调节机构横向剖面结构图；

图中：100、腔体；110、样品台；311、第一冷却结构；312、第二冷却结构；320、射频电源系统；400、抽真空系统；500、压力控制系统；700、供气系统；800、口径调节机构；801、管体；802、盖体；803、侧边；804、进气端；805、第一套筒；806、第二套筒；807、弹簧；808、弹性套；809、支杆；810、气囊；900、气泵；3111、第一通孔；3121、第二通孔。

具体实施方式