[实用新型]等离子体沉积装置

权利要求书

1.等离子体沉积装置，包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，等离子体喷枪系统包括冷却系统，冷却系统包括第一冷却结构、第二冷却结构，第一冷却结构中设置有第一通孔，第二冷却结构中设置有第二通孔，第二通孔两端分别与第一通孔、腔体连接，其特征在于，还包括口径调节机构，具备管体、伸缩机构、弹性套，管体一端与第二通孔位于腔体内的端部固定，管体腔内设伸缩机构，多个伸缩机构分布在弹性套周侧且伸缩端与弹性套外周壁固定，弹性套一端开口与第二通孔相对，另端开口朝向腔体内。

2.根据权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，伸缩机构包括相套合的第一套筒和第二套筒、弹簧及气囊，气囊位于第一套筒内且抵接第一套筒内的第二套筒，弹簧套在第一套筒上以限位第二套筒。

3.根据权利要求2所述的等离子体沉积装置，其特征在于，弹簧两端分别固定在第一套筒、第二套筒上。

4.根据权利要求2所述的等离子体沉积装置，其特征在于，管体周壁中空，气囊的进气口与管体中空腔道连通。

5.根据权利要求4所述的等离子体沉积装置，其特征在于，管体外周壁上设进气端，与管体中空腔道连通。

6.根据权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，还包括弹性盖体，安装在管体两端，固定在弹性套与管壁之间。