[发明专利]一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法

说明书

本发明涉及一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法，所述装置包括沉积气体储存容器、反应腔体以及连接两者用于输送沉积气体的管路，沿所述沉积气体的流动方向，所述管路包括至少两个温度流失区域；对应所述温度流失区域，所述装置还设置温度保持装置与第一温度监测装置，所述第一温度监测装置的监测目标温度呈递增趋势。利用所述装置，可以保持所述管路内的沉积气体为持续气化状态，有效地防止了沉积气体在管路内部或反应腔体内的基板上遇冷凝固发生结晶化现象，有效地避免了管路堵塞或基板报废等严重问题，有效地避免了巨大的经济损失。

技术领域

本发明涉及激光化学气相沉积技术领域，具体涉及一种防止激光化学气相沉积中沉积气体结晶化的装置和方法。

背景技术

激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition，LCVD)是一种通过激光束的光子能量激发和促进将化学气体或蒸汽在基板表面反应合成涂层或纳米材料的方法。目前，LCVD主要用作一种修补方法，主要用于修补显示基板上的断线等缺陷。例如CN103744201A公开了一种液晶显示面板的修复方法及修复系统，所述修复方法包括以下步骤：步骤1、提供液晶显示面板，该液晶显示面板上的电路有断路；步骤2、通过激光化学气相沉积法在液晶显示面板上形成石墨烯，以连通该断路，所述修复方法制程简单，修复效果好，且以甲烷等常见气体为碳源气体，利于环境保护；并可以通过控制激光的照射与否控制石墨烯的层数，进而控制石墨烯的导电率，提升修复效果；同时，还可以调整激光的光斑半径，则可控制石墨烯生长线路的分辨率，调整激光光路，使光斑能按设定的路径对断路区域进行加热，沉积出所需要的石墨烯线路或形状。

CN107342231A公开了一种薄膜晶体管的栅极断线修补方法，包括以下步骤：(1)在薄膜晶体管的栅极断线处的两端定位两个点；(2)在定位到的两个点上，分别采用激光穿透该点的刻蚀阻挡层和栅绝缘层进行打孔，当孔到达栅极所在层时停止，形成孔1和孔2；(3)采用激光化学气相沉积法从孔1的位置开始沿薄膜晶体管的外表面注膜，到达孔2的位置时停止，在两孔之间形成一层注膜层，从而使孔1和孔2电气连接。通过所述修补方法可以实现跨层的栅极断线修补。

CN107145019A公开了一种显示基板的修复方法、修复系统、显示基板及显示面板，所述修复方法包括：在检测到显示基板的信号线发生断路或者短路之后，在信号线发生断路的断开处或者在信号线短路修复时形成的断开处，形成修复线；至少在所述修复线所在区域形成保护层。所述修复方法在对信号线的断开处形成修复线之后，还要进一步形成保护层将该修复线保护起来，消除了后段的清洗、涂覆等工艺对该修复线的影响，避免其脱落导致修复失败，从而提高了修复效果和产品品质。

CN102736341A公开了一种液晶显示面板及其修复方法，所述修复方法包括：检测所述面板以确定存在点缺陷的子像素区域；电连接点缺陷所在的子像素区域和与其相邻的正常显示的子像素区域，其中，所述正常显示的子像素区域和所述点缺陷所在的子像素区域用于同一颜色的显示；断开出现所述点缺陷的子像素区域中的薄膜晶体管和与其对应的数据线以及像素电极之间的连接。通过所述修复方法能够使亮点变为好点，提高了液晶显示面板的显示品质，并且可适用于对无需存储电容的电极设计的液晶显示面板进行修复。

在实施LCVD时，需要在相应位置照射激光束，使得在该位置上可以集中沉积，从而达到修复目的，而在具体修复过程中，需要在修复位置供应包含目标金属元素的金属源气体，进而通过LCVD技术发生化学反应，生成相应涂层。然而，金属源气体一般是含有金属元素的有机气体，例如六羰基铬(Cr(CO)₆)，极易在管路内部或基板上遇冷凝固生成结晶，造成管路堵塞或基板报废等严重问题，造成巨大的经济损失，针对该问题，现有技术并没有公开任何技术方案。

综上所述，目前亟需开发一种防止激光化学气相沉积中金属源气体结晶化的方法。

发明内容