[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，包括一阵列基板，其特征在于，所述显示面板还包括：

阳极，所述阳极设置于所述阵列基板上并与所述阵列基板电性连接；

牺牲层，所述牺牲层设置于所述阳极的表面上，以暴露所述阳极的部分表面；以及，

疏水层，所述疏水层设置于所述牺牲层上，并覆盖所述牺牲层及暴露的所述阵列基板；其中，

所述疏水层具有多个开口以暴露所述阳极的部分表面。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述疏水层的材料为疏水性有机光阻。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述疏水性有机光阻为聚酰亚胺系、亚克力系中的任一种。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述牺牲层包括在不损伤所述疏水层的水溶性或有机溶液中可缓慢溶解的材料。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述牺牲层的材料为氧化钨。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阳极的材料为氧化铟锡、氧化铟锌及氧化钨中的至少一种与金属的组合。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至6中任一项所述的显示面板。

8.一种如权利要求1至6中任一项所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

提供一阵列基板并在所述阵列基板上层叠形成一阳极和一牺牲层；

通过喷墨打印在所述牺牲层上形成疏水层，所述疏水层具有多个开口以暴露所述牺牲层；以及，

通过湿法刻蚀将所述开口暴露的所述牺牲层刻蚀掉以露出所述阳极。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述阵列基板上层叠形成一阳极和一牺牲层的步骤中，还包括如下步骤：

在所述阵列基板上层叠形成一金属层和一牺牲材料层；

在所述牺牲材料层背离所述金属层一侧的表面上涂覆光阻材料并进行光刻以形成一光阻层；

以所述光阻层为阻挡层，对所述金属层及所述牺牲材料层进行图案化处理后并去除所述光阻层，以分别形成一阳极及一牺牲层。

10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在通过湿法刻蚀将所述开口暴露的所述牺牲层刻蚀掉以露出所述阳极的步骤中，进行湿法蚀刻的蚀刻液为用于溶解所述牺牲层且不损伤所述疏水层的水溶性或有机溶液。