[发明专利]芯片晶圆、芯片封装结构及封装方法在审
申请号: | 202011125655.3 | 申请日: | 2020-10-20 |
公开(公告)号: | CN112185827A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 程彦敏;殷昌荣 | 申请(专利权)人: | 上海艾为电子技术股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/78;H01L23/31 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 姚璐华 |
地址: | 201199 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片 封装 结构 方法 | ||
本发明公开了一种芯片晶圆、芯片封装结构及封装方法,所述封装方法包括:提供一半导体晶圆,所述半导体晶圆包括多个芯片基底,相邻所述芯片基底之间具有划片道;所述芯片基底具有相对的第一侧和第二侧;在所述第一侧的有源层上形成第一互联结构;形成第一塑封层,所述第一塑封层覆盖所述第一边缘区、所述第一互联结构以及所述有源层;形成第二互联结构,所述第二互联结构覆盖中间区域,露出第二边缘区;形成第二塑封层,所述第二塑封层覆盖所述第二互联结构、所述第二边缘区以及所述第一塑封层;基于所述划片道进行分割,形成多个单粒的芯片封装结构。应用本发明提供的技术方案,避免了切割导致的翘曲和隐裂问题,从而提升产品封装的可靠性。
技术领域
本发明涉及芯片封装技术领域,尤其是涉及一种芯片晶圆、芯片封装结构及封装方法。
背景技术
随着科学技术的不断发展,各种各样的电子设备被广泛的应用于人们的日常生活以及工作当中,为人们的日常生活以及工作带来了巨大的便利,成为当今人们不可或缺的重要工具。
电子设备实现各种功能的核心部件是控制芯片,为了保证芯片安全可靠运行以及避免其受到损伤,芯片需要封装保护形成封装结构。现有的芯片封装结构中,容易出现金属层翘曲和隐裂问题,导致封装结构的可靠性低。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种芯片晶圆、芯片封装结构及封装方法,避免了切割导致的金属层翘曲和隐裂问题,提升产品封装的可靠性。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种芯片封装方法,所述封装方法包括:
提供一半导体晶圆,所述半导体晶圆包括多个芯片基底,相邻所述芯片基底之间具有划片道;所述芯片基底具有相对的第一侧和第二侧;所述第一侧具有功能区以及包围所述功能区的第一边缘区;所述第二侧包括中间区域和包围所述中间区域的第二边缘区;
在所述第一侧的有源层上形成第一互联结构;所述有源层覆盖所述功能区,露出所述第一边缘区;
形成第一塑封层,所述第一塑封层覆盖所述第一边缘区、所述第一互联结构以及所述有源层;在所述半导体晶圆具有所述有源层的一侧表面,所述划片道具有预设深度的沟槽;所述第一塑封层填充所述沟槽;
对所述半导体晶圆背离所述有源层的一侧进行减薄,露出所述沟槽底部的第一塑封层;
在减薄后的所述第二侧形成第二互联结构,所述第二互联结构覆盖所述中间区域,露出所述第二边缘区;
形成第二塑封层,所述第二塑封层覆盖所述第二互联结构、所述第二边缘区以及所述第二侧露出的所述第一塑封层;
基于所述划片道进行分割,形成多个单粒的芯片封装结构。
优选的,在上述的封装方法中,所述第一互联结构的形成方法包括:
形成覆盖所述有源层的第一金属层;
在所述第一金属层上形成锡球。
优选的,在上述的封装方法中,在形成所述第一塑封层之前,在所述划片道形成设定深度的所述沟槽;
其中,所述沟槽的深度小于所述半导体晶圆的厚度。
优选的,在上述的封装方法中,所述第二互联结构的形成方法包括:
在减薄后的所述第二侧形成图形化的种子层,所述种子层覆盖所述中间区域,露出所述第二边缘区和所述第一塑封层;
形成图形化的背面金属层,所述背面金属层覆盖所述种子层,露出所述第二边缘区和所述第一塑封层。
优选的,在上述的封装方法中,所述种子层和所述背面金属层的形成方法包括:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造