[发明专利]一种亚分辨率辅助图形的获取方法

说明书

本发明公开一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其至少包括以下步骤：提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。本发明解决了亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率的问题。

技术领域

本发明属于半导体技术领域，特别是涉及一种亚分辨率辅助图形的获取方法。

背景技术

随着半导体行业的发展，人们对芯片的性能与能耗要求越来越苛刻，要想获得更小面积、更高性能以及更低能耗的芯片，就需要进一步减小芯片上各图形大小及各图形之间的间距，间距的降低会导致版图上的某些图形之间的设计距离小于光波长度。因此需要在版图刻印在掩模版上之前对版图进行修正，防止在光刻过程中产生光学邻近效应(OpticalProximityEffect，OPE)，避免刻印在芯片上的图形与设计不一致而产生图形失真。为了避免光学邻近效应而对版图进行修正的技术为光学邻近修正 (OpticalProximityCorrection，OPC)技术。亚分辨率辅助图形(Sub-resolutionAssist Feature，SRAF)是一种被较多采用的光学邻近修正方式。通过亚分辨率辅助图形技术对版图进行修正，可以有效提高光刻工艺的图形分辨率，增大工艺窗口，提高产品良率。

基于添加规则在主图形上添加的亚分辨率辅助图形，经过光学邻近修正后，亚分辨率辅助图形与修正后主图形之间的距离过小，导致亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种亚分辨率辅助图形的获取方法，解决了光学邻近修正后，亚分辨率辅助图形与修正后主图形之间的距离过小，导致亚分辨率辅助图形易被曝光显影到基底上，从而降低产品良率的问题。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明提供一种亚分辨率辅助图形的获取方法，其至少包括以下步骤：

提供一集成电路版图，所述集成电路版图包括多个第一图形及第一亚分辨率辅助图形；所述多个第一亚分辨率辅助图形布置在所述多个第一图形外围，所述第一亚分辨率辅助图形与所述第一图形之间具有一最小间距；

对所述第一图形进行光学邻近修正，获得多个第二图形；

将所述第一亚分辨率辅助图形沿垂直于所述第二图形的方向分割为多个子图形，获得第二亚分辨率辅助图形，其中相邻所述子图形间设有第一距离；

将所述子图形向所述第二图形移动第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的边缘位置放置误差；

调整所述第一距离和所述第二距离，获取所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形的最小边缘位置放置误差；

通过所述最小边缘位置放置误差，获得最优第二亚分辨率辅助图形。

在本发明的一个实施例中，所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在水平方向上存在第一误差，所述第二图形光学模型的模拟轮廓相对于所述第一图形在垂直方向上存在第二误差。

在本发明的一个实施例中，所述第二亚分辨率辅助图形包括两个子图形。

在本发明的一个实施例中，所述第一亚分辨率辅助图形为长方形，所述子图形为沿所述第一亚分辨率辅助图形的长边进行分割。

在本发明的一个实施例中，所述第一距离的调整范围为0至第一亚分辨率辅助图形的长边的长度。