[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法有效
申请号: | 202011059003.4 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN112695276B | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 北原道隆;金栽贤;永田透 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/04;C23C14/56;H10K71/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 邓宗庆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 方法 以及 电子器件 制造 | ||
1.一种成膜装置,在成膜室中在被成膜物上进行成膜,其特征在于,
所述成膜装置具备:
被成膜物支承部,所述被成膜物支承部支承所述被成膜物;以及
旋转接头,所述旋转接头具有旋转部和固定部,所述旋转部与所述被成膜物支承部连接并旋转,所述固定部设置在所述旋转部的周围并固定于所述成膜室,
所述固定部具有供给液体的供给口和排出液体的排出口,
所述旋转部具有供给流路和排出流路,所述供给流路将从所述供给口供给的液体向所述被成膜物支承部供给,所述排出流路将从所述被成膜物支承部排出的液体向所述排出口排出,
在所述成膜装置中,构成供液体按照所述供给口、所述供给流路、所述被成膜物支承部、所述排出流路、所述排出口的顺序流动的液体流路,
所述成膜装置还具备:
循环路径,所述循环路径将从所述排出口排出的液体向所述供给口供给;
泵,所述泵配置于所述循环路径;
阀,所述阀配置于所述循环路径;
排泄口,所述排泄口为了排出从所述液体流路漏出的排泄液而设置于所述旋转接头;以及
控制部,所述控制部为了抑制所述排泄液的漏出而根据所述成膜装置的运转状态,对所述泵和所述阀进行控制。
2.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述排泄液包含所述液体和杂质成分,
从所述排泄口排出的所述排泄液被收容于排泄液容器。
3.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述控制部对向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方进行控制,使得在从所述成膜室内送出了所述被成膜物时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方相比在向所述成膜室内送入了所述被成膜物时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方减少。
4.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述控制部对向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方进行控制,使得在未进行所述被成膜物的成膜时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方相比在进行所述被成膜物的成膜时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方减少。
5.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述成膜装置具备设置在所述成膜室内并对蒸发源进行加热的加热部,
所述控制部对向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方进行控制,使得在未利用所述加热部进行加热时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方相比在利用所述加热部进行加热时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方减少。
6.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述控制部对向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方进行控制,使得在所述旋转部未旋转时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方相比在所述旋转部的旋转开始时向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方减少。
7.如权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述控制部使用温度传感器来测定所述被成膜物的温度,根据该温度对所述液体的流量以及压力中的至少一方进行控制。
8.如权利要求1~7中任一项所述的成膜装置,其特征在于,
所述控制部根据所述成膜装置的运转状态对所述阀的开度进行控制,从而对向所述供给口供给的所述液体的流量以及压力中的至少一方进行控制。
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