[发明专利]一种钙钛矿光电探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010974472.2 申请日: 2020-09-16
公开(公告)号: CN112349840A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 张泽雨林;朱卫东;陈大正;游海龙;张进成 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 钙钛矿 光电 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种钙钛矿光电探测器,其特征在于,自下而上依次包括:衬底(1)、TCO层(2)、半导体层(3)、钙钛矿层(4)以及电极(5),其中,所述半导体层(3)为超宽禁带半导体。

2.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述TCO层(2)的材料为ITO、FTO或者AZO。

3.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述半导体层(3)的材料为氧化镓或者氮化铝,其厚度为5-30nm。

4.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述钙钛矿层(4)为有机无机杂化钙钛矿或者全无机钙钛矿。

5.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述电极(5)为金属电极、透明导电氧化物电极或者碳电极。

6.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述TCO层(2)和所述半导体层(3)之间还包括电子传输层(6)。

7.根据权利要求1所述的钙钛矿光电探测器,其特征在于,所述钙钛矿层(4)和所述电极(5)之间还包括空穴传输层(7)。

8.一种钙钛矿光电探测器的制备方法,其特征在于,包括:

选取一定衬底,并采用原子层沉积或磁控溅射工艺在所述衬底上生长TCO层;

采用化学气相沉积、原子层沉积、分子束外延或磁控溅射工艺在腔室中生长超宽禁带半导体材料,以在所述TCO层上形成超宽禁带半导体层;

采用旋涂工艺或蒸镀工艺,在所述超宽禁带半导体层上沉积钙钛矿层;

采用掩膜法,通过蒸镀、ALD或刮涂工艺在样品顶部生长电极,以完成器件的制备。

9.根据权利要求8所述的钙钛矿光电探测器的制备方法,其特征在于,在生长超宽禁带半导体材料之前,还包括:

采用旋涂或ALD方法在所述TCO层上生长电子传输层。

10.根据权利要求8所述的钙钛矿光电探测器的制备方法,其特征在于,在生长电极之前,还包括:

在所述钙钛矿层上生长空穴传输层。

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