[发明专利]MEMS陀螺正交误差校正系统在审

专利信息
申请号: 202010935517.5 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN114152266A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 陈方;李昕欣 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 徐秋平
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: mems 陀螺 正交 误差 校正 系统
【说明书】:

发明提供一种MEMS陀螺正交误差校正系统,包括:MEMS陀螺敏感模态电极,用于生成位移信号;预处理组件,与所述MEMS陀螺敏感模态电极相连,用于将所述位移信号转换为数字电压信号;数字解调组件,与所述多位量化器和所述MEMS陀螺敏感模态电极相连,用于根据所述数字电压信号生成同相1比特脉宽密度调制信号和正交相1比特脉宽密度调制信号,并反馈至所述MEMS陀螺敏感模态电极。本发明的MEMS陀螺正交误差校正系统能够在不增加特定校正电极的前提下,解决现有技术中对MEMS陀螺正交误差抑制能力和校正实时性不强的问题,有效提高了MEMS陀螺的精度。

技术领域

本发明涉及微机电系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)惯性传感器领域的技术领域,特别是涉及一种MEMS陀螺正交误差校正系统。

背景技术

陀螺仪是惯性导航系统的关键传感器之一,其性能直接决定了导航系统的精度。传统的激光陀螺、光纤陀螺和原子陀螺等具有精度高、稳定性好等优点,但是价格昂贵、体积较大,无法满足导航系统的小型化要求。基于MEMS技术的微机械陀螺,体积小、功耗低且易批量化生产,是未来陀螺仪传感器的一个重要发展方向。因此,如何实现MEMS陀螺达到导航级精度水平一直是该领域研究的重点和难点。

正交误差是目前影响MEMS陀螺精度提高的最显著误差源之一。这是由于MEMS陀螺在微加工过程中不可避免的存在非线性刚度耦合误差。与敏感模态的角速率位移相比,陀螺驱动位移较大,导致刚度耦合误差产生的正交位移也很大。这严重影响了MEMS陀螺的各项指标精度。现有的MEMS陀螺正交误差校正(抑制)技术主要包括以下两种:

(1)机械校正技术

机械校正需要MEMS陀螺结构具有特定的校正电极,通过在校正电极加载DC直流电压来调整陀螺刚度误差,实现陀螺模态刚度同性对称。

(2)电路校正技术

电路校正需要外围接口电路产生反馈静电力去平衡抵消MEMS陀螺上的等效正交误差力,达到校正的结果。

现有研究表明,基于高阶微机电Sigma-Delta力平衡闭环调制的MEMS陀螺技术,兼具数字静电力反馈平衡和高阶Sigma-Delta信号调制输出的优点,是实现高精度导航级MEMS 陀螺传感器的有效技术之一,在传感器系统的灵活性、稳定性和集成性等方面均具有显著的优势。但是,现有的微机电Sigma-Delta陀螺技术还无法对MEMS陀螺正交误差进行有效的校正,这也制约了微机电Sigma-Delta陀螺精度的进一步提高。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种MEMS陀螺正交误差校正系统,能够在不增加特定校正电极的前提下,解决现有技术中对MEMS陀螺正交误差抑制能力和校正实时性不强的问题,有效提高了MEMS陀螺的精度。

为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种MEMS陀螺正交误差校正系统,包括: MEMS陀螺敏感模态电极,用于生成位移信号;预处理组件,与所述MEMS陀螺敏感模态电极相连,用于将所述位移信号转换为数字电压信号;数字解调组件,与所述多位量化器和所述MEMS陀螺敏感模态电极相连,用于根据所述数字电压信号生成同相1比特脉宽密度调制信号和正交相1比特脉宽密度调制信号,并反馈至所述MEMS陀螺敏感模态电极。

于本发明一实施例中,所述MEMS陀螺敏感模态电极包括检测电极和反馈电极;所述检测电极用于生成所述位移信号;所述反馈电极用于接收所述同相1比特脉宽密度调制信号和所述正交相1比特脉宽密度调制信号。

于本发明一实施例中,所述预处理组件包括:

前置电路,与所述MEMS陀螺敏感模态电极相连,用于将所述MEMS陀螺敏感模态电极生成的位移信号转换为模拟电压信号;

多位量化器,与所述前置电路相连,用于将所述模拟电压信号转换为数字电压信号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010935517.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top