[发明专利]显示面板有效

专利信息
申请号: 202010843244.1 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN112038325B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 陈勇;鲁凯;廖作敏 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L23/552 分类号: H01L23/552;H01L27/12;G09F9/33
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 吕姝娟
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板
【说明书】:

本申请公开了一种显示面板。该显示面板包括衬底、位于该衬底上的栅极层、位于该栅极层上的第一绝缘层、及位于该第一绝缘层上的金属屏蔽层;该栅极层包括多个栅极单元,该金属屏蔽层包括多个金属屏蔽单元,一该金属屏蔽单元对应一该栅极单元;其中,该金属屏蔽层用于屏蔽相邻两个该栅极单元之间的交流信号。本申请通过在栅极层上设置金属屏蔽层,利用电屏蔽原理,减少相邻两栅极单元之间的交流信号影响,减少了显示不均,改善了显示效果。

技术领域

本申请涉及显示领域,具体涉及一种显示面板。

背景技术

随着生活水平的提高,极窄边框的显示屏幕越来越受到各大厂商及人民的喜爱。

现有技术中,在极窄边框的显示屏幕或高分辨率屏幕中,阵列单元的布线非常密集复杂,阵列单元容易受到相邻元器件中交流信号的耦合效应的影响,导致显示不均,出现显示异常。

因此,亟需一种显示面板以解决上述技术问题。

发明内容

本申请提供了一种显示面板,以解决现有技术中,阵列单元容易受到相邻元器件中交流信号的耦合效应的影响,导致显示不均的技术问题。

为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:

一种显示面板,包括衬底、位于所述衬底上的栅极层、位于所述栅极层上的第一绝缘层、及位于所述第一绝缘层上的金属屏蔽层;

所述栅极层包括多个栅极单元,所述金属屏蔽层包括多个金属屏蔽单元,一所述金属屏蔽单元对应一所述栅极单元;

其中,所述金属屏蔽层用于屏蔽相邻两个所述栅极单元之间的交流信号。

在本申请的显示面板中,所述栅极单元包括一第一栅极及至少一与所述第一栅极相对设置的第二栅极,所述第一栅极与所述第二栅极绝缘设置;

在一个子像素内,所述第一栅极或/和所述第二栅极在所述衬底上的正投影位于所述金属屏蔽单元在所述衬底上的正投影之内。

在本申请的显示面板中,任一所述金属屏蔽单元与所述显示面板的恒压信号端电连接。

在本申请的显示面板中,所述显示面板还包括位于所述第一绝缘层上的源漏极层,所述金属屏蔽层与所述源漏极层电连接。

在本申请的显示面板中,所述源漏极层包括多个第一源漏极单元及与所述第一源漏极单元对应的第二源漏极单元,所述第一源漏极单元与所述第二源漏极单元异层设置;

所述第一源漏极单元包括第一子源极单元及第一子漏极单元,所述第二源漏极单元包括第二子源极单元,所述第二子源极单元与所述第一子源极单元电连接,所述金属屏蔽层位于所述第一源漏极单元与所述第二源漏极单元之间。

在本申请的显示面板中,所述显示面板还包括位于源漏极层上的第二绝缘层、位于所述第二绝缘层上的阳极层;

其中,所述阳极层包括多个阳极单元,一所述金属屏蔽单元与一所述阳极单元电连接。

在本申请的显示面板中,所述显示面板还包括位于所述衬底上的金属遮光层,源漏极层的多个源极单元通过多个第一过孔与所述金属遮光层电连接,所述金属屏蔽层与所述金属遮光层通过多个第二过孔电连接。

在本申请的显示面板中,所述金属屏蔽单元至少包括第一屏蔽部件与第二屏蔽部件,所述第一屏蔽部件与所述第二屏蔽部件异层设置;

所述第一屏蔽部件与源漏极层的源极单元电连接,所述第二屏蔽部件与所述源漏极层的漏极单元电连接,或者所述第二屏蔽部件与阳极层电连接。

在本申请的显示面板中,所述显示面板包括靠近弯折区的第一区域,在数据线的方向上,所述第一区域内的相邻两个阵列单元之间的间距小于所述第一区域外围的相邻两个所述阵列单元之间的间距;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010843244.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top