[发明专利]表面形貌量测系统与方法在审

专利信息
申请号: 202010690199.0 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN113945168A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 潘世耀;丁之尧;林嘉宏;张馨匀 申请(专利权)人: 致茂电子(苏州)有限公司
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25;G01B11/24
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵晓荣
地址: 215129 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 表面 形貌 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种表面形貌量测方法,其特征在于,包含:

将一测试光线分为一第一子光线与一第二子光线,该第一子光线沿一第一轴向入射一反射镜,该第二子光线沿一第二轴向入射一对象表面;以及

移动该反射镜,使该反射镜于该第一轴向上的不同位置反射该第一子光线,以产生N个反射光;

产生一对象反射光,该对象反射光关联于反射自该对象表面的该第二子光线;

产生N个影像,该N个影像关联于该N个反射光以及该对象反射光,每一该影像包含多个干涉条纹;

分析每一该影像中的该些干涉条纹,以计算出N个弦波曲线算式;以及

由该N个弦波曲线算式计算该对象表面的一表面形貌;

其中该反射镜的一第一法线与该第一轴向夹有一第一角度,或该对象表面的一第二法线与该第二轴向夹有该第一角度,N为大于2的正整数。

2.根据权利要求1所述的表面形貌量测方法,其特征在于,该测试光线具有一第一波长,且于移动该反射镜,使该反射镜于该第一轴向上的不同位置反射该第一子光线,以产生该N个反射光的步骤中,更包含:

设定该反射镜在该第一轴向上的一第i个设定位置,以产生该N个反射光中的一第i个反射光;

设定该反射镜在该第一轴向上的一第i+1个设定位置,产生该N个反射光中的一第i+1个反射光;以及

其中该第i个设定位置与该第i+1个设定位置间隔八分之一的该第一波长,i为小于N的正整数。

3.根据权利要求2所述的表面形貌量测方法,其特征在于,于分析每一该影像中的该些干涉条纹,以计算出该N个弦波曲线算式的步骤中,更包含:

于每一该影像中的选择垂直于该些干涉条纹的一参考线;以及

将该参考线上的该些干涉条纹进行曲线拟合,以计算出每一该弦波曲线算式。

4.根据权利要求3所述的表面形貌量测方法,其特征在于,于将该参考线上的该些干涉条纹进行曲线拟合,以计算出每一该弦波曲线算式的步骤中,于进行曲线拟合时,更取得该第i个反射光与该第i+1个反射光的一第i个相位误差值。

5.根据权利要求4所述的表面形貌量测方法,其特征在于,每一该弦波曲线算式包含一准位参数、一振幅参数以及一相位参数,且该相位参数关联于该对象表面的该表面形貌以及该第i个相位误差值。

6.一种表面形貌量测系统,用以量测一对象表面的一表面形貌,其特征在于,所述表面形貌量测系统包含:

一光源,用以提供一测试光线;

一反射镜,选择性地移动于一第一轴向上的不同位置;

一分光镜,用以将该测试光线分为一第一子光线与一第二子光线,该第一子光线沿该第一轴向入射该反射镜,该第二子光线沿一第二轴向入射该对象表面;以及

一摄影装置,用以接收反射自该反射镜于该第一轴向上的不同位置的该第一子光线,以及接收反射自该对象表面的该第二子光线,以产生N个影像,其中反射自该反射镜于该第一轴向上的不同位置的该第一子光线定义为N个反射光,反射自该对象表面的该第二子光线定义为一对象反射光,该N个影像关联于该N个反射光以及该对象反射光,每一该影像包含多个干涉条纹;以及

一处理装置,电性连接该摄影装置,用以分析每一该影像中的该些干涉条纹,以计算出N个弦波曲线算式,并由该N个弦波曲线算式计算该对象表面的该表面形貌;

其中该反射镜的一第一法线与该第一轴向夹有一第一角度,或该对象表面的一第二法线与该第二轴向夹有该第一角度,N为大于2的正整数。

7.根据权利要求6所述的表面形貌量测系统,其特征在于,该测试光线具有一第一波长,该反射镜在该第一轴向上的一第i个设定位置产生该N个反射光中的一第i个反射光,该反射镜在该第一轴向上的一第i+1个设定位置产生该N个反射光中的一第i+1个反射光,其中该第i个设定位置与该第i+1个设定位置间隔八分之一的该第一波长,i为小于N的正整数。

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