[发明专利]具有功能单元和可重新配置的去耦单元的集成电路在审
申请号: | 202010637982.0 | 申请日: | 2020-07-03 |
公开(公告)号: | CN112241618A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 斯文·特雷斯特 | 申请(专利权)人: | 恩智浦有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392;G06F30/394;G06F30/398;H01L27/02;G06F115/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 荷兰埃因霍温高科*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 功能 单元 重新 配置 集成电路 | ||
公开了一种用于设计集成电路的方法,所述集成电路将构造在单元中,其中所述单元将包括功能单元和备用单元。所述方法包括:a)设计至少一个功能单元;以及b)将多个功能单元放置在针对所述功能单元设计的特别是规则的图案矩阵的相关联的图案位置上。所述方法另外包括c)将基于栅极的去耦单元放置在所述图案矩阵的剩余图案位置中的至少一个剩余图案位置上并且代替针对所述图案矩阵的所述剩余图案位置中的所述至少一个剩余图案位置可想到的至少一个备用单元,以及可替换的是或另外,d)将基于栅极的去耦单元放置在图案矩阵的图案位置之间的至少一个间隙中并且代替针对所述图案矩阵的图案位置之间的所述至少一个间隙可想到的至少一个填充单元。
技术领域
本发明涉及一种用于设计集成电路的方法、一种用于制造集成电路的方法以及一种具有备用单元和/或填充单元的集成电路,其中备用单元和/或填充单元被配置为基于栅极的去耦单元。
背景技术
当前的现有技术集成电路可以包括如晶体管、二极管、电容器等多种类型的装置和如功能标准单元、填充单元、备用单元和去耦单元等多种类型的单元。
在本申请的上下文中,“单元”是指由多个装置组成的电路,所述多个装置可以在集成电路中重复使用(或实例化)、然后可以根据需要在晶圆上实施多次以受益于以下事实:具有具体已知性质的大量预定义单元是可用的并且不需要针对每个使用案例从头创建。单元的非常简单的例子将会是反相器,所述反相器由两个晶体管组成并且具有一个输入信号引脚、一个输出信号引脚和电源引脚。这些单元通常被组合成更大的单元文库,所述单元文库可以适合许多不同种类的目的,如例如反相器、缓冲器、与门、或门、与非门、异或门、触发器、多路复用器等。
取决于目标使用案例,此类文库还可以包含不常见的单元,例如,为高压IC设计的单元。一个文库中的单元的共同之处在于,所述单元被设计成使得所述单元可以例如通过利用连续的阱和衬底结构在IC的区域设计中彼此相邻地放置以便进行高效的面积使用,并且使得所述单元可以共享公共电源轨等。
在本申请的上下文中,“功能单元”是指全功能标准单元,所述全功能标准单元意指包含装置并被提供以满足IC、电路、模块或块(如反相器、与非门或触发器)的功能要求的单元。
当功能单元被放置在集成电路的设计中时,这通常在某个图案中发生,即,在由某个通常规则的图案矩阵提供的图案位置上。将功能单元放置在图案矩阵的图案位置上是出于效率的原因而实现的,例如为了使能够共享阱和衬底行。然而,在放置了单元之后,那些被放置的单元之间可以存在间隙。在此类情况下,使用填充单元来“填充”这些间隙,这也是出于效率的原因而作出的,例如为了继续供电轨、阱和衬底行。
在本申请的上下文中,“填充单元”是指放置在针对功能单元而设计的图案矩阵的图案位置之间的间隙中的单元。如所提及的,将填充单元放置在图案矩阵的图案位置之间是出于效率的原因而作出的,例如为了继续供电轨、阱和衬底行。否则,这些结构将会被破坏掉并且可能引起功能性问题或基于制造规则需要更大的单元间距。填充单元可以包含浮动结构,出于更容易制造的原因,所述浮动结构不电连接到由供电轨提供的供电电压,例如在有源半导体层或多晶硅层中。填充单元不包含有助于构建某个单元功能的装置,但如所解释的仅出于填充间隙的原因而添加。
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