[发明专利]正型光刻胶组合物、制备正型光刻胶的方法和玻璃件在审
申请号: | 202010592219.0 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN113835297A | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 卢泽宇 | 申请(专利权)人: | 深圳市万普拉斯科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/008;C03C15/00;H04M1/02 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 梁韬 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 组合 制备 方法 玻璃 | ||
本发明实施例公开了一种正型光刻胶组合物、制备正型光刻胶的方法和玻璃件。该正型光刻胶组合物按重量份计包括以下组分:15‑25份二甲酚型线性酚醛树脂、60‑80份稀释剂、3‑8份光敏剂、0.5‑2份增感剂、0.1‑0.5份偶联剂、0.1‑0.5份流平剂和0.5‑2份交联剂。利用本发明实施例的正型光刻胶组合物获得的正型光刻胶来对玻璃件进行蚀刻可获得特定的纹理,由此获得的纹理不容易磨损丢失,而且具有很强的立体感,而且,在烘烤时不易收缩,因此,线条精度高,蚀刻后能够获得所期望的高精度纹理图案,由此提高了产品的良率,并且大大提升了终端用户的体验度。
技术领域
本发明涉及光刻胶领域,尤其涉及一种正型光刻胶组合物、制备正型光刻胶的方法和玻璃件。
背景技术
在手机盖上做纹理已经成为一种流行,主流是在膜片上做UV转印纹理,但是很多的智能手机盖都采用了玻璃材质,在玻璃上转印获得的纹理容易磨损丢失。
发明内容
鉴于上述问题,本发明提供了一种新的正型光刻胶组合物、制备正型光刻胶的方法、玻璃纹理形成工艺和玻璃件。
本发明的一个实施方案提供一种正型光刻胶组合物,按重量份计包括以下组分:15-25份二甲酚型线性酚醛树脂、60-80份稀释剂、3-8份光敏剂、0.5-2份增感剂、0.1-0.5份偶联剂、0.1-0.5份流平剂和0.5-2份交联剂。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述二甲酚型线性酚醛树脂的重均分子量8000-20000,软化点大于160℃。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,制备所述二甲酚型线性酚醛树脂的原料包括二甲酚、间甲酚和对甲酚,所述二甲酚占三种甲酚总质量的5%~40%。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述间甲酚与所述对甲酚的质量比1:1~1.5:1。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述稀释剂包括沸点120℃-170℃的酯类溶剂。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述酯类溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述光敏剂包括邻萘醌二叠氮磺酸类的酯化物。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述光敏剂包括2,3,4-三羟基二苯甲酮-2,1,5-重氮萘醌磺酸酯。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述增感剂包括TPPA-1000P、TPPA-100-2C、TPPA-1100-3C、TPPA-1100-4C、TPPA-1200-24X、TPPA-1200-26X、TPPA-1300-235T、TPPA-1600-3M6C和TPPA-MF中的至少一种。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述偶联剂包括具有选自氨基、酰胺基、脲基、酮亚胺基、异氰酸酯基、巯基、异氰脲酸环骨架、(甲基)丙烯酰基及苯乙烯基中的至少一个取代基的硅烷偶联剂。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述硅烷偶联剂包括KBM-403。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述流平剂包括氟系表面活性剂、硅酮系表面活性剂、聚环氧烷烃系表面活性剂和聚(甲基)丙烯酸酯系表面活性剂中的至少一种。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述流平剂包括BYK-333。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述交联剂包括三聚氰胺。
在上述实施方案的正型光刻胶组合物中,所述交联剂包括Cymel-300和Cymel-303中的至少一种。
本发明的另一个实施方案提供一种制备上述正型光刻胶的方法,所述方法包括:
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