[发明专利]微纳模具及其制作方法

权利要求书

1.一种微纳模具的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供一基底(10)，在所述基底(10)上涂布一层UV胶层(20)；

在所述UV胶层(20)上覆盖一层透明基板(30)；

对所述UV胶层(20)进行曝光固化并部分形成固态UV胶(21)，所述固态UV胶(21)为图案化结构并粘附在所述透明基板(30)朝向所述UV胶层(20)一侧的表面上；

将粘附有所述固态UV胶(21)的透明基板(30)与所述基底(10)进行分离并得到具有图案结构的微纳模具(50)，所述固态UV胶(21)对应形成微纳模具(50)上的图案结构。

2.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，对所述UV胶层(20)进行曝光固化的步骤为：

在所述透明基板(30)与曝光光源(L)之间设置掩膜(40)，所述掩膜(40)为图案化结构，所述掩膜(40)包括透光区域(41)和遮光区域(42)，所述固态UV胶(21)与所述透光区域(41)相对应，或者，所述掩膜(40)包括透光区域(41)、遮光区域(42)以及半透光区域，所述固态UV胶(21)与所述透光区域(41)以及所述半透光区域相对应，所述半透光区域对应的固态UV胶(21)的厚度小于所述透光区域(41)对应的固态UV胶(21)的厚度。

3.根据权利要求2所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述光源(L)从所述透明基板(30)背离所述基底(10)的一侧对所述UV胶层(20)进行曝光固化。

4.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括除去所述微纳模具(50)上未曝光固化的UV胶层(20)，包括：

将分离后得到的微纳模具(50)放置于溶剂中浸泡3～5分钟，然后再将所述微纳模具(50)从溶剂中取出。

5.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述基底(10)的边缘设有用于限制所述UV胶层(20)的限制框(11)，所述限制框(11)朝向所述UV胶层(20)一侧凸出，所述限制框(11)与所述基底(10)共同形成用于容纳所述UV胶层(20)的容纳槽(101)。

6.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述UV胶层(20)的厚度在50μm～200μm之间，所述固态UV胶(21)的厚度小于所述UV胶层(20)的厚度。

7.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述微纳模具(50)上具有凸起(51)和凹槽(52)，所述凹槽(52)的深度在4μm～25μm之间。

8.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述透明基板(30)的厚度在5μm～100μm之间。

9.根据权利要求1所述的微纳模具的制作方法，其特征在于，所述基底(10)为PC基底、玻璃基底或金属基底，所述透明基板(30)为PET基板。

10.一种微纳模具，其特征在于，所述微纳模具(50)通过如权利要求1-9任一项所述的制作方法制成。