[发明专利]一种薄膜沉积系统检测装置及方法在审

专利信息
申请号: 202010375404.4 申请日: 2020-05-06
公开(公告)号: CN113624791A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 孙冰朔;屈芙蓉;吴朋桦;夏洋;李培源 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N23/20058 分类号: G01N23/20058;G01N23/20008;C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 房德权
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 沉积 系统 检测 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜沉积系统检测装置,其特征在于,用于原子层沉积系统,所述装置包括:集成在所述原子层沉积系统上的发射模块和接收模块;其中,

所述发射模块用于向所述原子层沉积系统的沉积腔室中发射电子束;

所述接收模块包括集成在所述原子层沉积系统上的真空接收腔室、位于所述真空接收腔室内的荧光屏以及设置在所述真空接收腔室上的第一阀门;所述第一阀门用于开闭所述真空接收腔室,以使所述荧光屏在所述第一阀门开启时,可接收经所述沉积腔室中沉积的薄膜衍射的电子束,以及在所述第一阀门关闭时,使所述荧光屏密封在所述真空接收腔室内。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述接收模块还包括:

镜头组件,用于采集所述荧光屏上的图像;

计算机,用于接收所述镜头组件采集的图像。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述荧光屏可拆卸的安装在所述真空接收腔室内部。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一阀门为气动插板阀,所述气动电控插板阀通过所述原子层沉积系统的气动控制源进行控制。

5.如权利要求4所述的装置,其特征在于,所述真空接收腔室连接有第一真空泵,所述第一真空泵用于对所述真空接收腔室进行抽真空。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述发射模块包括:

电子枪,用于向所述原子层沉积系统的沉积腔室中发射电子束;

真空系统,用于使所述电子枪工作在独立的真空环境中。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述真空系统包括第二真空泵、第三真空泵和第二阀门,所述电子枪的发射端通过第二阀门与所述沉积腔室连接,所述第二阀门的两侧分别通过第一连接件和第二连接件与所述第二真空泵和所述第三真空泵连接,形成二级真空差分系统,是所述电子枪可工作在独立的真空环境中。

8.一种薄膜沉积系统检测方法,其特征在于,应用于权利要求1-7的任一项所述的装置;所述方法包括:

在所述原子层沉积系统中进行薄膜沉积时,通过所述发射模块向所述薄膜表面发射电子束;

开启所述第一阀门开启,使所述荧光屏接收所述薄膜表面衍射的电子束,以获得检测数据;当不需要采集检测数据时,关闭所述第一阀门,使所述荧光屏密封在所述真空接收腔室内。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述原子层沉积系统中的样品台可旋转升降;所述方法还包括:

通过调整所述样品台,以调整所述薄膜表面对电子束的衍射角度。

10.一种原子层沉积系统,其特征在于,所述系统包括如权利要求1-7的任一项所述的薄膜沉积系统检测装置。

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