[发明专利]一种漫反射型标定板及其制备方法

说明书

本发明公开了一种漫反射型标定板的制备方法，包括以下步骤：使用20%‑60%DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液，对抛光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨10‑40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面或平面；在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形，依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀，制得金属铬层；进行精密切割，尺寸精度为±0.05mm，本发明还公开了利用该方法制得的标定板，本发明采用研磨工艺制作磨砂效果，满足高平面度要求，砂粒精细并可控，反射率小于0.1%。

技术领域

本发明涉及标定板领域，尤其涉及一种漫反射型标定板及其制备方法。

背景技术

在机器视觉、图像测量、摄影测量、三维重建等应用中，为校正镜头畸变，确定物理尺寸和像素间的换算关系，以及确定空间物体表面某点的三维几何位置与其在图像中对应点之间的相互关系，需要建立相机成像的几何模型。通过相机拍摄带有固定间距图案阵列平板、经过标定算法的计算，可以得出相机的几何模型，从而得到高精度的测量和重建结果。但在前置光源情况下，玻璃材质标定板会出现反光的情况。

目前存在几种现有技术来解决玻璃材质标定板出现反光的问题：

1)使用陶瓷作为基材，在陶瓷片进行镀铬，陶瓷基材不反光。但是氧化铝、氧化锆陶瓷成本比玻璃要高，平整度也较玻璃的差。陶瓷基材一般厚度只有1mm、能加工的尺寸最大在200mm左右，玻璃基材可以各种厚度、能加工大尺寸，目前国内最大型抛光设备能做到1米。

2)在玻璃表面涂高分子材料膜，膜层不反光。但是在玻璃表面涂高分子材料膜附着力比磁控溅射镀的铬膜差，不耐气候、高温、酸碱等坏境。

目前尚无对玻璃材质标定板表面进行处理来解决反光问题的技术，在操作过程中发现利用喷砂加工磨砂效果，会对玻璃表面造成损伤，且不适合加工薄片玻璃。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：解决上述现有技术存在的问题，而提供一种漫反射型标定板及其制备方法，采用研磨工艺制作磨砂效果，采用抛光工艺满足高平面度要求，结合半导体掩模版工艺制程，满足细线条、高精密加工要求。

本发明采用的技术方案是：

一种漫反射型标定板的制备方法，包括以下步骤：

第一次研磨：使用20％-60％DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液，对抛光片/原版玻璃的上表面研磨10-40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面；或者对抛光片/原版玻璃的下表面研磨10-40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为平面；或者同时对抛光片/原版玻璃的上表面和下表面研磨10-40min，得到两个第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面；优选的使用30％-50％DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液，对抛光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨20-30min。

研磨步骤的关键在于：使用不同粒径金刚砂得到不同表面的粗糙度，表面粗糙度可控。通过修正研磨盘面的平面度，可得到高平面度(最高可做到5微米以内)。

制作图形：在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形，依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀，制得金属铬层图形；

精密切割：进行精密切割，尺寸精度为±0.05mm。

进一步地，第一次研磨步骤和制作图形步骤之间还包括抛光步骤：使用10-30％DN95粒径为0.5-1.5微米的氧化铈抛光溶液，对一个第一研磨面进行10-120min的抛光，得到抛光面。优选的，使用20-30％DN95粒径为1-1.5微米的氧化铈抛光溶液，对其中一个第一研磨面进行50-80min的抛光。

进一步地，同时对另一个第一研磨面进行抛光，得到另一个抛光面，再对其中一个抛光面进行第二次研磨，得到第二研磨面。