[发明专利]化学气相沉积设备的进气结构、进气方法及设备

权利要求书

1.一种化学气相沉积设备的进气结构，包括进气管路，所述进气管路用于将包括源气体和载气的工艺气体输送至所述化学气相沉积设备的反应腔室中，其特征在于，所述进气结构还包括浓度检测单元、流量调节单元和控制单元；其中，

所述浓度检测单元设置在所述进气管路上，用于检测所述进气管路中所述源气体的当前浓度值，并发送至所述控制单元；

所述流量调节单元用于调节所述工艺气体的当前流量值；

所述控制单元用于根据所述源气体的当前浓度值和所述源气体的目标浓度控制所述流量调节单元调节所述工艺气体的流量值，以调节所述反应腔室中的所述源气体的质量，使之等于目标质量。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积设备的进气结构，其特征在于，所述流量调节单元包括第一质量流量控制器，所述第一质量流量控制器设置在所述进气管路上。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积设备的进气结构，其特征在于，所述进气结构还包括鼓泡器和载气管路，其中，

所述鼓泡器用于存储液态的所述源气体，所述鼓泡器的出气端与所述进气管路的进气端连接；

所述载气管路的出气端与所述鼓泡器的进气端连接，用以将所述载气输送至所述鼓泡器中。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积设备的进气结构，其特征在于，所述流量控制单元包括第二质量流量控制器，所述第二质量流量控制器设置在所述载气管路上。

5.一种进气方法，其特征在于，采用权利要求1至4中任意一项所述的化学气相沉积设备的进气结构将包括源气体和载气的工艺气体输送至所述化学气相沉积设备的反应腔室中，所述进气方法包括以下步骤：

S1、利用所述浓度检测单元检测所述进气管路中所述源气体的当前浓度值；

S2、利用所述控制单元根据所述源气体的当前浓度值、所述源气体的预设的目标浓度值和所述工艺气体的当前流量值计算得到所述工艺气体的目标流量值；

S3、利用所述控制单元控制所述流量调节单元调节所述工艺气体的当前流量值，以调节所述反应腔室中的所述源气体的质量，使之等于目标质量。

6.根据权利要求5所述进气方法，其特征在于，采用权利要求4所述的化学气相沉积设备的进气结构将工艺气体输送至所述化学气相沉积设备的反应腔室中；

在所述步骤S3中，利用所述控制单元控制所述第二质量流量控制器调节所述载气的当前流量值。

7.根据权利要求5所述进气方法，其特征在于，在所述步骤S2中，具体包括：

S21、判断所述源气体的当前浓度值是否等于预设的所述目标浓度值，若等于，则维持所述工艺气体的当流量值，若不相等，则进入所述步骤S3。

8.根据权利要求7所述的进气方法，其特征在于，在所述步骤S2中，在步骤S21之前，还包括：

S20、判断所述源气体的当前浓度值是否在第一浓度值与第二浓度值的区间范围内，若不在，则停止进气；若在，则进行所述步骤S21；

其中，所述第一浓度为源气体的浓度下限值，且所述第一浓度值小于所述目标浓度值，所述第二浓度值为源气体的浓度上限值，且所述第二浓度值大于所述目标浓度值。

9.根据权利要求7所述的进气方法，其特征在于，在所述步骤S3之后，还包括：

S4、判断工艺是否结束，若结束，则停止进气，若未结束，则返回所述步骤S1。