[发明专利]一种测量玻璃基板缺陷分层的装置和方法在审

专利信息
申请号: 202010300455.0 申请日: 2020-04-16
公开(公告)号: CN111366593A 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 方红义;吴亚平;林海峰;夏刚;陈涛涛;石志强;李震;李俊生 申请(专利权)人: 芜湖东旭光电科技有限公司;东旭光电科技股份有限公司
主分类号: G01N21/958 分类号: G01N21/958;G01N21/88
代理公司: 北京彩和律师事务所 11688 代理人: 刘磊;闫桑田
地址: 241000 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 测量 玻璃 缺陷 分层 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述装置包括,支撑机构、拍摄机构以及驱动机构,其中,

所述支撑机构,用于设置所述拍摄机构;

所述拍摄机构,包括第一拍摄机构和第二拍摄机构,所述第一拍摄机构包括第一光源和第一相机,所述第一光源和第一相机呈八字形设置,所述第一光源和所述第一相机的中线与所述第二拍摄机构的中轴线重合;

所述驱动机构,用于带动所述支撑机构移动。

2.根据权利要求1所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述第二拍摄机构包括依次间隔设置的第二相机、第二光源以及透镜组合,所述第二相机、第二光源以及透镜组合位于一条直线上。

3.根据权利要求2所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述第一拍摄机构用于确定所述第二拍摄机构的预定位置;所述第二拍摄机构用于逐层拍摄玻璃基板的缺陷图像以确定玻璃基板上缺陷的类型以及位置。

4.根据权利要求2所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述透镜组合靠近所述第一拍摄机构设置,所述第二光源以及所述第二相机逐渐远离所述第一拍摄机构设置。

5.根据权利要求3所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述第二光源为同轴光源,所述第一光源为点光源。

6.根据权利要求4所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述支撑机构包括支撑板,所述第一光源、第一相机、第二光源、第二相机、透镜组合均固设于所述支撑板上。

7.根据权利要求6所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述驱动机构包括步进电机,所述步进电机与所述支撑板连接,通过所述步进电机驱动所述支撑板移动。

8.根据权利要求7所述的测量玻璃基板缺陷分层的装置,其特征在于,所述装置还包括控制机构,所述控制机构用于控制所述驱动机构的驱动方向,从而使得所述驱动机构带动所述支撑板向特定的方向进行移动。

9.一种测量玻璃基板缺陷分层的方法,其特征在于,包括如下步骤:

将具有缺陷的待测玻璃基板与玻璃基板缺陷分层的装置垂直设置;

第一拍摄机构拍摄所述待测玻璃基板上缺陷的图像,以确定第二拍摄机构需要达到的预定位置;

驱动机构带动所述支撑板移动,以使所述第二拍摄机构到达预定的位置;

所述第二拍摄机构对所述待测玻璃基板进行多次拍摄,直至所述第二拍摄机构拍摄到清晰的缺陷图像,从图像中确定缺陷的类型及位置。

10.根据权利要求9所述的测量玻璃基板缺陷分层的方法,其特征在于,所述待测玻璃基板与所述支撑板垂直设置,所述第二拍摄机构的拍摄方向与所述待测玻璃基板垂直设置,所述第一拍摄机构靠近所述待测玻璃基板。

11.根据权利要求9所述的测量玻璃基板缺陷分层的方法,其特征在于,所述第一拍摄机构拍摄所述玻璃基板上缺陷的图像后,通过下述计算公式来确定第二拍摄机构需要达到的预定位置;

计算公式为:Z=a×L+Loffset

Z为第二相机与待测玻璃基板的距离;

L为第一光源在第一相机拍摄的光斑图像中的像素位置;

a为系数;

Loffset为偏差系数。

12.根据权利要求11所述的测量玻璃基板缺陷分层的方法,其特征在于,在确定第二拍摄机构需要达到的预定位置之前,在所述待测玻璃基板上制作至少两个标记,所述第一光源射出的光线打在所述待测玻璃基板的标记上,在所述标记上形成光斑,所述第一相机拍摄所述光斑图像,通过计算公式拟合出系数a以及偏差系数Loffset的数值。

13.根据权利要求9所述的测量玻璃基板缺陷分层的方法,其特征在于,当第二拍摄机构达到预定位置后,将所述待测玻璃基板沿所述玻璃的厚度分为n份,所述第二相机对待测玻璃基板开始拍摄图像,每拍摄一次图像,所述驱动机构带动所述支撑板沿待测玻璃基板的方向移动1/n厚度的距离,所述第二相机继续拍摄图像,直至所述第二拍摄机构拍摄到待测玻璃基板n/n厚度处的图像,然后从拍摄的图像中确定缺陷最清晰的图像,从而从图像中确定缺陷的类型。

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