[发明专利]壳体及其制作方法、电子设备

权利要求书

1.一种壳体的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

提供一基体；

对所述基体进行变形处理使之呈弯曲状；

在所述基体的一表面形成颜色层。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述对所述基体进行变形处理使之呈弯曲状的步骤之前，还包括：

在所述基体的一表面形成纹理层；

其中，所述纹理层与所述颜色层位于所述基体的同一侧。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基体的一表面形成纹理层的步骤，包括：

在所述基体的一表面涂布光固化胶；

对所述光固化胶进行转印处理使之形成纹理图样；

对所述光固化胶进行光照处理使之形成所述纹理层；

其中，所述纹理层的厚度为8-16μm。

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基体的一表面形成纹理层的步骤之后，还包括：

在所述纹理层的表面形成保护膜；

所述在所述基体的一表面形成颜色层的步骤之前，还包括：

去掉所述保护膜。

5.根据权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述基体预设有多个间隔分布的待变形区，所述对所述基体进行变形处理使之呈弯曲状的步骤之前，还包括：

去掉所述待变形区之间的所述纹理层、所述保护膜。

6.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基体的一表面形成颜色层的步骤之前，还包括：

在所述基体的一表面形成光泽层；

其中，所述光泽层与所述纹理层、所述颜色层位于所述基体的同一侧。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基体的一表面形成光泽层的步骤，包括：

在氧气的氛围中，在所述纹理层的表面蒸镀硅钛或硅铝或锆硅钛以形成所述光泽层；

其中，所述光泽层的厚度为0.1-0.5μm。

8.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基体的一表面形成纹理层的步骤之前，还包括：

在所述基体的一表面形成产品标识；

其中，所述产品标识与所述纹理层、所述颜色层位于所述基体的同一侧。

9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述基体的一表面形成颜色层的步骤，包括：

在所述基体的一表面依次喷涂第一涂料、第二涂料、第三涂料以形成所述颜色层。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第一涂料包括黄色油墨、第一固化剂和第一稀释剂，所述黄色油墨、所述第一固化剂、所述第一稀释剂的质量比例为95:8:75-105:12:85；所述第二涂料包括白色油墨、第二固化剂和第二稀释剂，所述白色油墨、所述第二固化剂、所述第二稀释剂的质量比例为95:8:35-105:12:45；所述第三涂料包括灰色油墨、第三固化剂和第三稀释剂，所述灰色油墨、所述第三固化剂、所述第三稀释剂的质量比例为95:8:35-105:12:45。

11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述第一涂料的喷涂厚度为5-20μm，所述第二涂料的喷涂厚度为5-20μm，所述第三涂料的喷涂厚度为5-20μm。

12.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述对所述基体进行变形处理使之呈弯曲状的步骤之后，还包括：

在所述基体的另一表面形成功能层；

其中，所述功能层与所述颜色层位于所述基体的相对两侧。

13.一种壳体，其特征在于，所述壳体呈弯曲状，并包括基体及形成于所述基体的颜色层。

14.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括显示屏及壳体，所述壳体与所述显示屏装配连接。