[发明专利]设有基板扫描器的基板处理设备

权利要求书

1.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

处理站，用于处理基板；

盒匣站，与所述处理站集成在一起；

基板托架，通过位于所述处理站和所述盒匣站之间的界面处的通道在所述处理站和所述盒匣站之间传送所述基板；以及

基板扫描器，设置在所述处理站和所述盒匣站之间的所述界面处，用于在所述基板通过所述通道的传输期间，提取所述基板的表面影像数据。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述基板扫描器包括设置在所述基板的顶表面上方的影像感测装置。

3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中，所述基板扫描器是线形扫描器，以大约4.5K line/second的预设线速率提取所述基板的线形表面影像。

4.根据权利要求2所述的基板处理设备，其中，所述基板扫描器具有47μm的像素尺寸。

5.根据权利要求3所述的基板处理设备，其中，还包括布置在所述影像感测装置和所述基板的所述顶表面之间的发光装置。

6.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中，从所述发光装置发出照射到所述基板的所述顶表面上的扫描线，并且由所述影像感测装置检测含有所述表面影像数据的反射光。

7.根据权利要求6所述的基板处理设备，其中，所述发光装置包括滤光器，所述滤光器阻挡来自所述发光装置的光源的蓝光和紫外光。

8.根据权利要求7所述的基板处理设备，其中，所述光源是发光二极管光源，并且具有至少50,000lux的照度。

9.根据权利要求6所述的基板处理设备，其中，所述影像感测装置的长度等于或大于所述基板的直径。

10.根据权利要求6所述的基板处理设备，其中，所述发光装置具有使所述扫描线和所述反射光通过的带状透明窗。

11.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述基板的所述顶表面在两秒钟内被所述基板扫描器完全扫描。

12.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，还包括在所述处理站中配备的转移板，其中所述基板在被所述基板托架运送之前被安置在所述转移板上。

13.根据权利要求12所述的基板处理设备，其中，所述转移板是用于冷却所述基板的冷却板。

14.根据权利要求12所述的基板处理设备，其中，当由所述基板扫描器扫描时，所述基板托架从所述传送板拾取所述基板并且以恒定的移动速度在所述处理站与所述盒匣站之间的所述界面处通过所述通道。

15.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述处理站包括光致抗蚀剂涂覆单元和显影处理单元。

16.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述处理站包括化学机械研磨站。

17.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述处理站包括蚀刻站。

18.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

处理站，用于处理基板；

盒匣站，与所述处理站集成在一起；

基板托架，用于通过位于所述处理站和所述盒匣站之间的界面处的通道在所述处理站和所述盒匣站之间传送所述基板；以及

两个基板扫描器，配置在所述处理站和所述盒匣站之间的所述界面处，用于在所述基板通过所述通道的传输期间，提取所述基板的表面影像数据，其中，所述两个基板扫描器分别扫描所述基板的顶面和背面。