[发明专利]一种碳板结构、分析磁场以及离子注入设备

权利要求书

1.一种碳板结构，其特征在于，应用于离子注入设备的分析磁场中，包括：

碳板主体，被配置为弧形结构，用于设置在所述分析磁场底部；以及，

至少一个碳制挡板，沿与离子束注入方向垂直的方向设置于所述碳板主体上，且面向离子束注入方向的一侧与所述碳板主体之间设置有预设角度，其中，所述预设角度的范围包括：大于0°并小于90°，以使剥落物沉积时沉积在所述分析磁场的底部以及所述碳制挡板背离离子束注入的方向；

所述碳板主体设置有挡板安装底座，所述碳制挡板以及所述挡板安装底座上均设置有与螺丝配合的螺丝孔，所述碳制挡板通过所述螺丝固定在所述挡板安装底座上；所述碳制挡板面向离子束注入方向的一侧设置用于遮挡所述螺丝的碳帽。

2.根据权利要求1所述的碳板结构，其特征在于，与所述挡板安装底座连接的一侧设置有与所述挡板安装底座配合的安装槽口。

3.根据权利要求1所述的碳板结构，其特征在于，所述螺丝的材质包括钼。

4.根据权利要求1所述的碳板结构，其特征在于，所述预设角度的范围包括30°~60°。

5.一种分析磁场，其特征在于，应用于离子注入设备，包括如权利要求1-4任一项所述的碳板结构，且所述碳板结构设置于所述分析磁场的底部。

6.一种离子注入设备，其特征在于，包括如权利要求5所述的分析磁场。