[发明专利]一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板

说明书

本说明书一个或多个实施例提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板；所述制作方法包括：在衬底基板上形成隔离柱；设置阳极材料，并对所述阳极材料进行构图工艺，形成阳极层以及包覆于所述隔离柱的保护层；通过构图工艺，去除所述保护层以露出所述隔离柱。本说明书提供的方案通过在不同的制作工序中分别形成阳极层和隔离柱，并且在形成阳极层时，通过阳极材料形成包覆于隔离柱的保护层，由该保护层将隔离柱与银离子隔离，有效的防止银单体的生成，避免了在有效显示区形成暗点，从而保证了显示质量。

技术领域

本说明书一个或多个实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板。

背景技术

随着显示器技术发展和更新换代，有机电致发光显示器件(OrganicElectroluminance Display，简称为OLED)由于具有自发光、高亮度、高对比度、低工作电压、可制作柔性显示器等特点，已经逐渐成为显示领域的主流产品。

为实现影像采集功能，参考图1，OLED显示面板需要在有效显示区(Active Area，简称为AA区)开设一开孔区以设置影像采集组件。然而，通过相关技术制作出的显示面板，普遍在AA区靠近开孔区的位置处存在较多暗点(也称为坏点)的情况，严重影响正常显示。

发明内容

有鉴于此，本说明书一个或多个实施例的目的在于提出一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示面板。

基于上述目的，本说明书一个或多个实施例提供了一种阵列基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成隔离柱；

设置阳极材料，并对所述阳极材料进行构图工艺，形成阳极层以及包覆于所述隔离柱的保护层；

通过构图工艺，去除所述保护层以露出所述隔离柱。

作为一个可选的实施方式，在形成隔离柱之前，还包括：

在衬底基板上，从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向，依次形成聚酰亚胺层、隔离缓冲层、遮光层和层间介质层。

作为一个可选的实施方式，所述形成隔离柱，包括：

在所述层间介质层上，形成源漏极层和所述隔离柱。

作为一个可选的实施方式，所述形成源漏极层和所述隔离柱之后，还包括：在所述源漏极层上形成平坦层；

所述设置阳极材料，包括：

通过溅射成膜工艺，在所述平坦层和所述隔离柱上覆盖所述阳极材料。

作为一个可选的实施方式，所述隔离柱包括：从靠近所述衬底基板到远离所述衬底基板的方向依次设置的第一金属层、第二金属层和第三金属层；其中，所述第一金属层和第三金属层的材料均为钛；所述第二金属层的材料为铝。

作为一个可选的实施方式，所述形成阳极层以及包覆于所述隔离柱的保护层之后，还包括：

在所述阳极层上形成像素界定层。

作为一个可选的实施方式，所述通过构图工艺，去除所述保护层以露出所述隔离柱，具体包括：

涂布光刻胶，以覆盖所述像素界定层和所述保护层；

通过曝光显影，去除所述保护层对应位置处的所述光刻胶，以露出所述保护层；

通过湿刻法，去除所述保护层以露出所述隔离柱。

作为一个可选的实施方式，所述去除所述保护层以露出所述隔离柱之后，还包括：

对所述第二金属层进行刻蚀，以使所述隔离柱呈工字型。