[发明专利]一种超薄印制电路板的制作方法有效

专利信息
申请号: 202010073679.2 申请日: 2020-01-22
公开(公告)号: CN113163626B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 石新红;付海涛 申请(专利权)人: 上海美维科技有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 31114 代理人: 竺明
地址: 201613 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 超薄 印制 电路板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种超薄印制电路板的制作方法,其特征是,包括如下步骤:

a)选择一片支撑板,所述支撑板采用透明或半透明材料;

b)在支撑板正面放置光感粘结片,光感粘结片的面积小于等于支撑板的面积;

c)将超薄芯板放置在光感粘结片上,采用热压或真空压膜的方式进行固化、粘结;超薄芯板包括一绝缘层及其上下的第一、第二铜箔,超薄芯板的厚度为10~50μm;

d)对第二铜箔进行钻孔,化学沉铜或电镀铜,实现第二铜箔和第一铜箔之间的层间导通、互联;对第二铜箔进行图形制作,形成第二导电线路层;

e)在第二导电线路层上放置粘结片,在粘结片上方放置第三铜箔,采用热压的方式进行压合;

f)对第三铜箔进行钻孔,化学沉铜或电镀铜,实现第三铜箔和第二铜箔之间的层间导通、互联;

g)对第三铜箔进行图形制作,形成第三导电线路层;

h)重复步骤e、f、g,直至完成所需的叠板层数,形成多层印制电路板;

i)从支撑板背面方向进行激光解离,实现光感粘结片与第一铜箔的分离;

j)对第一铜箔进行图形制作,形成第一导电线路层,最终制得超薄印制电路板。

2.一种超薄印制电路板的制作方法,其特征是,包括如下步骤:

a)选择一片支撑板,所述支撑板为透明或半透明材质;

b)在支撑板正面放置光感粘结片,光感粘结片的面积小于等于支撑板的面积;

c)将第一铜箔放置在光感粘结片上,采用热压或真空压膜的方式进行固化、粘结;

d)对第一铜箔进行图形制作,形成第一导电线路层;

e)在第一导电线路层上放置粘结片,在粘结片上方放置第二铜箔,采用热压的方式进行压合,所述粘结片的厚度为10~50μm;

f)对第二铜箔进行钻孔,化学沉铜或电镀铜,完成第一铜箔与第二铜箔之间的层间导通、互联;

g)对第二铜箔进行图形制作,形成第二导电线路层;

h)重复步骤e、f、g,直至完成所需的叠板层数,形成多层超薄印制电路板;

i)从支撑板背面方向进行曝光,实现光感粘结片与第一导电线路层的分离,最终制得含单面埋线的超薄印制电路板。

3.一种超薄印制电路板的制作方法,其特征是,包括如下步骤:

a)选择一片支撑板,所述支撑板为透明或半透明材质;

b)在支撑板正面放置光感粘结片,光感粘结片的面积小于等于支撑板的面积;

c)将第一铜箔放置在光感粘结片上,采用热压或真空压膜的方式进行固化、粘结;

d)对第一铜箔进行图形制作,形成第一导电线路层;

e)在第一导电线路层上放置第一粘结片,在第一粘结片上方放置第二铜箔,采用热压的方式进行压合,所述第一粘结片的厚度为10~50μm;

f)对第二铜箔进行钻孔,化学沉铜或电镀铜,完成第一铜箔与第二铜箔之间的层间导通、互联;

g)对第二铜箔进行图形制作,形成第二导电线路层;

h)重复步骤e、f、g,直至完成n-1层,n为印制电路板总层数;

i)在第n-1导电线路层上放置第二粘结片,在第二粘结片上方放置外层铜箔,采用热压的方式进行压合,所述第二粘结片的厚度为10~50μm;

j)使用激光在外层铜箔、第二粘结片上形成所需的线路槽和盲孔;

k)通过化学沉铜、电镀填孔的方式,将线路槽和盲孔填平;

l)通过电解抛光、机械抛光或减薄铜工艺去除第二粘结片表面的铜层;

m)从支撑板背面方向进行曝光,实现光感粘结片与第一导电线路层的分离,最终制得含双面埋线叠构的超薄印制电路板。

4.如权利要求3所述的超薄印制电路板的制作方法,其特征是,所述的第一、第二粘结片的材料层包括环氧树脂、聚酰亚胺、聚马来酰亚胺三嗪树脂、聚苯醚或聚四氟乙烯及FR-4或FR-5。

5.如权利要求3所述的超薄印制电路板的制作方法,其特征是,所述的第一、第二铜箔、外层铜箔包括压延铜箔、电解铜箔、反转铜箔、载体铜箔或埋阻铜箔,所述铜箔厚度为1.5~64μm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海美维科技有限公司,未经上海美维科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010073679.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top