[发明专利]一种含锇共轭聚合物及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202010057042.4 申请日: 2020-01-16
公开(公告)号: CN112745485B 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 夏海平;陈仕焰;张颖;朱永发;卓庆德;杨柳林;何旭敏 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;C09K11/06;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/42;H01L51/46;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭;姜谧
地址: 361000 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种含锇共轭聚合物,其特征在于:该含锇共轭聚合物的重复单元由金属杂环锇杂戊搭炔基团、共轭连接基团R1和乙烯基团组成,上述重复单元中该金属杂环锇杂戊搭炔基团的3号位与该共轭连接基团R1连接,该共轭连接基团R1再与该乙烯基团连接,然后该乙烯基团与下一个金属杂环锇杂戊搭炔基团的7号位连接,其结构式如下:

上述[Os]为OsCl(PPh3)2

上述Y为CH2或O;

上述共轭连接基团R1

上述Z-为Cl-

上述结构式中m为3~300的整数。

2.权利要求1所述的一种含锇共轭聚合物的制备方法,其特征在于:包括步骤:将含锇共轭聚合物的单体溶于有机溶剂中,在酸性条件下进行聚合反应,即得所述含锇共轭聚合物,其反应式如下:

上述酸包括无机酸和有机酸;所述无机酸包括HClO4、HI、HBr、HCl、HNO3、H2SeO4、H2SO4、HClO3、H2C2O4、H2SO3、H3PO4、HNO2、HF、H2CO3、H2S、HClO、H3BO3和H2SiO3;所述有机酸包括CH3SO3H、CF3COOH、CCl3COOH、CHCl2COOH、CH3COOH和HCOOH;

上述有机溶剂包括二氯甲烷、二氯乙烷、氯仿、甲醇、乙醇、丙酮、丁酮、四氢呋喃、二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、甲苯、苯、二氧六环、乙醚和乙腈。

上述聚合反应被2~80个碳原子的取代基取代的末端炔封端终止,该取代基包括取代或未取代的芳基、烷基和环烷基。

3.权利要求1所述的一种含锇共轭聚合物在有机光电器件中的应用。

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