[发明专利]气相二氧化硅颗粒分离脱氢的系统和方法

说明书

本发明提供了一种用于对气相二氧化硅颗粒进行分离和脱氢的分离系统(100)。分离系统(100)包括第一入口(102)、第二入口(104)、主体(106)、第一出口(108)和第二出口(110)。第一入口(102)将气流中的气相二氧化硅颗粒的初级进料收集到双入口旋风分离器中。第二入口(104)将氯气的二次进料收集到双入口旋风分离器中。双入口旋风分离器的主体(106)用于处理双入口旋风分离器内的初级进料和二次进料以及热量。此外，第一出口(108)用于释放脱水的气相二氧化硅颗粒，第二出口(110)用于释放水分子和其他气体。

发明领域

本发明涉及光纤制造领域，特别涉及一种对气相二氧化硅颗粒进行分离和脱氢的系统和方法。

背景技术

在过去的几年里，由于对光纤需求的过度增长，光纤制造业呈指数增长。光纤的制造有两个主要阶段。第一阶段是光纤预制件的制造，第二阶段是从光纤预制件中拔出光纤。一般来说，光纤的质量取决于制造条件。因此，具有良好性能的光纤预制件的制造受到了广泛的关注。这些光纤预制件包括被比内玻璃芯折射率低的玻璃包层包围的内玻璃芯。二氧化硅的脱水是光纤制造中去除光纤预制件中OH的必要条件。通常，经过OVD等工艺后获得的二氧化硅颗粒具有几何和密度特性。这对在执行中进行二氧化硅颗粒脱水提出了挑战，需要通过接触试剂和热处理来进行连续处理。对硅颗粒的加工不当会影响光纤预制件的质量。

鉴于上述讨论，需要一种获得脱水二氧化硅颗粒的系统和方法。

发明内容

本发明提供了一种用于对气相二氧化硅颗粒进行分离和脱氢的分离系统。分离器系统包括第一入口。分离器系统包括第二入口。此外，分离器系统包括双入口旋风分离器的主体。而且，分离器系统包括第一出口。以及，分离器系统包括第二出口。第一入口用于将气相流中的气相二氧化硅颗粒的初级进料收集到双入口旋风分离器中。气相二氧化硅颗粒的初级进料以流化(自由流动)状态收集。第二入口用于收集进入双入口旋风分离器的氯气二次进料。收集氯气的二次进料，以对流态化(自由流动)气相二氧化硅颗粒进行脱氢。双入口旋风分离器的主体用于处理二氧化硅颗粒的一次进料和氯气的二次进料以及双入口旋风分离器内部的热量。第一出口用于释放脱水二氧化硅颗粒。第二出口用于在对气相二氧化硅颗粒进行脱氢之后释放水分子和其他气体。

鉴于上述讨论，需要一种获得脱水二氧化硅颗粒的系统和方法。

本发明的主要目的是提供一种从气流中分离气相二氧化硅颗粒的系统。

本发明的另一个目的是提供对气相二氧化硅颗粒进行脱氢的系统。

本发明的另一个目的是提供在双入口旋风分离器中对气相二氧化硅颗粒进行分离和脱氢的系统。

本发明的另一个目的是在对气相二氧化硅颗粒进行分离和脱氢的同时减少总时间。

本发明的另一个目的是在对气相二氧化硅颗粒进行分离和脱羟基后，增加产量并减少浪费。

本发明的另一个目的是在腔室内对流态化(自由流动)气相二氧化硅颗粒进行脱氢。

本发明的另一个目的是在一个或多个腔室中对流态化(自由流动)气相二氧化硅颗粒进行脱氢。

本发明的另一个目的是利用所定义的几何气相二氧化硅颗粒进行低孔隙率的脱氢。